基于仿真模型的多层互连深微孔产品电镀能力研究.pdf
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1、2023春季国际PCB技术/信息论坛196电镀涂覆 Electroplating and coating基于仿真模型的多层互连深微孔产品电镀能力研究 Paper Code:S-025 王康磊 宋伟伟 焦小山(无锡深南电路有限公司,江苏 无锡 214412)摘 要 深微孔蟹脚及镀层结晶异常是电镀过程中常见的缺陷,其对PCB产品的可靠性具有重大的影响。文章采用有限元分析的方法,对侧喷时PCB板面及孔内的镀液流动状态进行了数值计算,得到了不同喷流速度、不同厚径比时镀液在深微孔底部的速度分布数据;另外通过试验研究了电流密度、波形时间比、正反电流比等电镀参数对深微孔电镀效果的影响,结果显示当电镀参数与喷
2、流频率进行协同作用时,深微孔产品的蟹脚、结晶异常类缺陷能够得到有效改善。关键词 深微孔;蟹脚改善;有限元分析;喷流模型 中图分类号:TN41 文献标识码:A 文章编号:1009-0096(2023)增刊-0196-11 Research on plating capability of multi-layer interconnect deep microvia products based on simulation modelWang Kanglei Song Weiwei Jiao Xiaoshan Abstract Deep microporous crab legs and abno
3、rmal crystallization of coating are common defects in the electroplating process,which have significant impact on the reliability of PCB products.The article uses the method of finite element analysis to numerically calculate the flow state of the plating solution on the PCB surface and in the hole
4、during side spraying,and obtains the velocity distribution of the plating solution at the bottom of the deep microhole under different jet velocities and different thickness-to-diameter ratios data.In addition,the influence of electroplating parameters such as current density,waveform time ratio,pos
5、itive and negative current ratio on the effect of deep microporous electroplating is studied through experiments.The results show that when electroplating and jet flow parameters are synergistic,these defects can be effectively improved.Key words Deep Micro-Holes;Crab Feet Improvement;Finite Element
6、 Analysis;Jet Model0 前言随着5G通讯时代的来临,电子产品高速发展,其对应的线路板产品也在快速的更新迭代,我们需要在尺寸固定的PCB产品上安装更多的元器件,因此提高布线密度,并实现多层次互通互连显得十分必要。近年来,由于多层互连的高厚径比深微孔工艺克服了传统叠孔工艺多次压合带来的板件变形、尺寸涨缩以及电镀凹陷等一系列问题,因此采用深微1972023春季国际PCB技术/信息论坛电镀涂覆 Electroplating and coating孔工艺的线路板产品越来越多,其在通信、医疗、数据中心等终端产品上应用非常广泛,具有广阔的市场前景12。但是,深微孔产品在电镀加工过程中经常出
7、现盲孔蟹脚和镀层结晶异常等缺陷,其对PCB产品的可靠性具有重大的影响,故此类问题亟待研究与改善。1 机理分析电镀过程一般由以下三个主要步骤组成3:反应粒子向电极表面的扩散传递(液相传质)、在电极表面得到电子变成吸附原子(电化学反应)、吸附原子向晶格内嵌入形成沉积层(新相生成步骤)。在电镀过程中,造成高厚径比深微孔板件电镀效果较差的原因有很多45,其中溶液交换存在差异是造成盲孔内部铜厚分布不均的主要原因。盲孔蟹脚的产生主要是由于盲孔底部孔角位置的镀液交换速度明显比盲孔内其他位置弱,孔角位置的铜离子浓度更小,在电流密度相同的情况下,孔角位置的铜沉积厚度明显低于孔底中间部位,因此呈现出孔底中间部位铜
8、层厚,孔角位置铜层较薄甚至断裂的现象(如图1所示)。图1 盲孔蟹脚、结晶异常缺陷朱凤鹃、陈于春等人研究报道67,镀铜反应从Cu2+2eCu这个过程中,对镀层结晶状态及形貌影响的因素有很多,特别在采用脉冲电镀工艺时,由于正反向电流交替作用,阴、阳极不断变化会增加电极状态的复杂程度,并且在反向电流作用时,阴极区的铜离子浓度会迅速上升,这也会改变局部溶液的扩散状态,从而导致镀层结晶异常。因此,采用脉冲电镀时,电流密度、正反电流比、正反时间比等电镀参数,硫酸、硫酸铜浓度等药水参数以及镀液扩散速度等都对镀层的结晶状态及盲孔蟹脚存在影响。2 实验部分2.1 工艺流程开料图形压合机械钻孔激光钻孔去钻污沉铜电
9、镀烘干测试2.2 试验设备本测试是在我司VCP脉冲电镀线进行,所采用的电镀参数如下:电流密度范围为10 ASF20 ASF,正反电流比范围为1:2/1:2.4/1:3,正反电流时间比范围为20:1/80:4/100:5;电镀波形为分段波形,电镀时间为80 min/次。深微孔蟹脚与结晶形貌采用金相显微镜进行观察与测量。2.3 试验板设计首先在板厚4 mm的板件上设计出不同孔径、Pitch和密集度的深微孔BGA矩阵,其具体规格如表1所示。待试验板经过电镀、烘干流程后,在BGA密集孔区域中间位置取样后制作金相切片,并用金相显微镜对深微孔蟹脚与结晶形貌进行观察与测量。2023春季国际PCB技术/信息论
10、坛198电镀涂覆 Electroplating and coating表1 不同规格深微孔规格表3 镀液侧喷流动模型与仿真分析电镀铜是一个复杂的电化学过程,涉及电场、流场、化学反应、物质传递等多个物理场的交互耦合作用。特别是对于高厚径比板件电镀来讲,镀液的流动方式会严重影响孔内镀液的流动速度以及边界层厚度,从而对通孔深镀能力及盲孔造成影响。目前业界常用的循环方式有三种:(1)鼓气:利用鼓气对溶液进行循环,加快铜离子的扩散速率,同时垂直于阳极的摇摆能够给板面施加一个正压力,强迫溶液穿过孔内,从而起到溶液交换的作用。(2)底喷:平行于板面的喷流,通过通孔两端的压力差迫使镀液流过通孔进行镀液循环,提
11、高通孔电镀铜均匀性。(3)侧喷:垂直于板面方向的喷流,业内水平电镀线和垂直电镀线在新线体的设计上大多数使用喷流,用以增强孔内流动。我司脉冲VCP线体采用的是侧喷的方式进行镀液循环,但是目前关于镀液侧喷流动的相关研究较少,可以参考的文献寥寥无几,因此本文拟通过有限元分析的方法对工厂脉冲VCP线体的实际镀液流动状态进行模型建立和仿真模拟,从而对侧喷时镀液的流动情况进行分析,对实际生产进行指导。3.1 脉冲VCP侧喷物理模型与仿真计算模型假设:(1)电解质为牛顿流体;(2)镀槽中的电解质的扩散系数、密度、粘度等传输特性以及动力学参数在铜沉积过程中保持不变;(3)与扩散和对流传输相比,电活性物质的电迁
12、移可忽略不计;(4)镀液中的温度分布时均匀的;(5)流动控制方程为Navier-Stockes方程。对于酸洗镀铜电镀液来说,密度1150 kg/m3,动力学粘性系数1.710-3 PaS。图3 电镀侧喷系统的物理模型与计算网格编号 孔径/m Pitch/m 矩阵密度 1 196 784 3030 2 196 784 5050 3 245 833 3030 4 245 833 5050 5 294 882 3030 6 294 882 5050 7 343 931 3030 8 343 931 5050 1992023春季国际PCB技术/信息论坛电镀涂覆 Electroplating and c
13、oating基于上述模型假设,取一个喷嘴的喷流作为研究对象,镀液从喷嘴出口以初速度U垂直于板面喷射。空间离散采用有限体积法,计算域的设定如图3(b)所示:D/E/F为喷管一侧,总体为计算域的左边界;E为单根喷管的模型位置,高度为4 cm,其内径为2 mm,设置为计算模型的速度和压力入口。A/C分别为计算域的上下边界,边长皆为11 cm,模拟喷管出口至板面的距离。B为PCB板件表面,忽略密集孔的影响,将其视为光板,设置为计算模型的速度和压力出口。边界条件为:板面取速度无滑移条件,喷嘴入口取速度条件,其余边界取远场速度条件,并在主流区和板面进行局部网格加密。图4 不同喷嘴出口流速时板面的流速分布图
14、当我们将喷嘴的流速分别设置为1 m/s、2 m/s、5 m/s、20 m/s时,板面附近的流体状态仿真如图4所示,流速分布数据见表1。由此可知,喷嘴的流速在粘性流体中进行扩散时速度损失较大,几乎都大于50%以上,所以喷嘴出口速度的改变对喷流效果的影响非常显著。表1 不同出口流速下板面的流速3.2 镀液流速理论计算与实际测量为了更清楚地了解在不同喷流频率下,脉冲VCP线体镀液实际的流动状态,我们记录了在单位时间内单个喷嘴的实际喷流流量,并通过理论计算得到了不同喷流频率时镀液在板面的实际流速数据。其中,脉冲VCP线体镀液侧喷系统的设备参数如表2所示,喷嘴出口实际流速测量值如表3所示。从图5可知,随
15、着喷流频率的增大,喷嘴出口的流速逐渐增加,当喷流频率分别为35 HZ、50 HZ、60 HZ时,喷嘴上端出口的流速分别为5.3 m/s、8.1 m/s、9.5 m/s,喷嘴下端出口的流速分别为5.6 m/s、8.6 m/s、9.6 m/s。由此可知,在编号 喷嘴出口流速(m/s)PCB板面流速(m/s)流速衰减率 a 1 0.41 59%b 2 0.85 58%c 5 2.01 60%d 20 9.19 54%2023春季国际PCB技术/信息论坛200电镀涂覆 Electroplating and coating相同的喷流频率下,喷嘴上、下端的镀液流速存在一定的差异,但其流速差值比例小于5%,
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