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商 业 计 划 书

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二零零三年五月二十二日

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商业计划编号：
JLKJ20030001
收 件 方：

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目 录
第一章、摘要 1
1.1 本商业的简单描述 1
1.2 机会概述 1
1.3 目标市场的描述和预测 1
1.4 竞争优势 2
1.5 经济状况和盈利能力预测 2
1.6 团队优势 2
1.7 商业计划目标 3
1.7.1 总体目标： 3
1.7.2 经济目标： 3
1.7.3 技术、质量指标： 3
1.7.4 阶段目标： 3
1.7.5 进展情况： 3
1.8 提供的利益 3
1.9 实施的风险 3
1.10 资本结构 4
1.11 资本退出 4
第二章、产业背景与公司概述 5
2.1 产业背景 5
2.1.1 市场描述 5
2.1.2 主要的竞争对手 5
2.1.3 市场驱动力 6
2.2 公司概述 7
2.2.1 公司名称及选址 7
2.2.2 公司性质 7
2.2.3 注册资本 7
2.2.4 公司简介 7
2.2.5 企业目标 7
2.2.6 公司产品 8
2.2.7 知识产权情况 9
2.2.8 技术成熟性和产品可靠性论述 9
2.2.9 环境保证与劳动安全 10
2.2.10 特殊行业许可证报批情况 10
2.3市场开发策略 10
第三章、市场调查和分析 11
3.1 客户 11
3.2 市场容量和趋势 12
3.3 同类产品指标对比 12
3.4 原材料供应 14
3.5 竞争与竞争优势 14
3.5.1 进入障碍分析 14
3.5.2 竞争优势 14
3.5.3 竞争对手分析 16
第四章、公司管理与战略 17
4.1 竞争战略选择 17
4.2 发展战略 17
4.3 管理体系 17
4.3.1 组织结构 17
4.3.2 人力资源规划与管理 18
4.3.3 销售体系管理 20
4.4 营销策划 21
4.4.1 目标市场 21
4.4.2 市场定位 21
4.4.3 市场营销目标 22
4.4.4 营销策略 22
4.4.5 服务体系 25
4.5 企业资源的立体整合 26
第五章、总体进度安排 28
第六章、投资风险 29
6.1 风险因素 29
6.2 风险应对策略 30
第七章、管理团队 31
7.1 团队介绍 31
7.2 核心人员情况 31
7.3 科研机构 32
第八章、投资估算与资金运用 33
8.1 固定资产投资合计3300万元 33
8.2 流动资金可支持公司三年正常运营合计1735万元 34
8.3 总体资金需求合计5035万元 35
第九章、财务计划与预测 36
9.1 财务管理目标 36
9.2 财务管理原则 36
9.3 财务数据分析 36
9.3.1 财务分析基本数据测算 36
9.3.2 财务评价 42
第十章、提供的利益 44
10.1 资金需求及股权分配 44
10.2 投资回报 44
10.3 投资退出策略 44
附件1: 技术专利 46
附件2: 公司章程 47
附件3：厂区布置图 52

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商业计划书-摘要 -4-
第一章、摘要
1.1 本商业计划的简单描述
本商业计划所涉及的项目属微电子技术与基础材料相关领域，以河北工业大学微电子研究所为依托，历时20年研发，主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。以改进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。2000年，该项目曾获得国家科技部科技型中小企业创新基金100万元；2001年，获得天津市“十五”重大攻关项目无偿资助100万元。
生产产品主要包括：
Ø 以“FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品；
Ø 以“FA/O集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FA/O电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。
产品主要应用于超大规模集成电路（ULSI）衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视机玻壳，液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具及增加二次采油率等领域。
产品的各项主要指标分别达到和超过国际上最先进的美国Rodel、Cabot公司和日本Fujimi、“花王”公司的相关产品，属于国际领先水平，是具有知识、技术密集，高效率、高效益、高水平的高新技术产品。
系列产品有五项产品获国家发明奖，已经通过ISO9001（2000版）质量认证。
当前在被动销售情况下，产品年销售额为200多万元，并开始进入在集成电路制造行业处于先进水平的台湾市场。鉴于河北工业大学微电子研究所资金的局限，特此融资以满足大规模化生产、检测和推广的经费要求，从而改变目前被动销售的局面。
1.2 机会概述
作为世界电子信息产品的主要生产基地，2003年，我国电子信息产业投资类产品显现强劲增长态势，头两月生产增速高达42％。北京、上海、天津等地的“十五”计划兴建的各大集成电路生产线业已投产或即将投产。国内CMP拋光液的市場需求量急剧增加。各集成电路厂商降低成本的愿望强烈，对我方产品的价格优势极为青睐。这为我方各项产品的扩大生产提供了良好的市场机遇。
1.3 目标市场的描述和预测
我方产品是在研究IC加工工艺过程中开发的与工艺配套的关键系列耗材。现阶段国内每年有数亿元的市场，90％的市场被国外占领。目前全球CMP拋光液的市場约有5~6亿美金，预计在2005年达到11~12亿美金的市场规模；预计在2005年大陆与台湾的市场将成长至15亿元人民币。
我方系列产品可广泛应用于国内外各微电子产品生产线。国内各大集成电路（IC）生产企业是我们已渐开发并有待拓展的第一市场。抛光液产品市场集中在北京、上海、天津、河南、河北、吉林与深圳等地；电子清洗液产品市场分布于广东、江苏、福建、吉林等地区，以及各种替代ODS清洗剂的市场；磨削液相关产品市场为上海、浙江、河南、河北、陕西等地区；提高二次采油率的活性剂产品市场为各大油田。目前，占世界IC加工量第三的我国台湾地区将是我们进入的第二市场。随着生产规模的不断扩大，逐鹿国际市场将是我们的第三个目标。
1.4 竞争优势
我方产品具有绝对的技术（参数优异）、价格（是同类产品的1/2到1/4甚至更低）优势，技术服务全面快捷。同时，对国外产品来说我们具有本土优势，对国内产品来说我们品牌优势明显。在今后的市场竞争中一定能够占有十分可观的市场份额。
1.5 经济状况和盈利能力预测
公司有很强的盈利能力。投资回报率按静态指标计算为55.1%，按动态指标计算为（贴现率为8%）40.3%，内部收益率高达44.4％。
1.6 团队优势
经过历年的发展，完善且具竞争力的管理、开发、生产与销售团队业已形成。
我们的顾问组有行政优势，同时极具业内号召力，由刘玉岭（本商业活动的核心创业人员；产品技术第一发明人；中国洗净协会副理事长；河北工业大学微电子专业学术带头人）、徐顺成（国家信息产业部科技司司长；中国洗净协会会长）、孙良欣（中国洗净协会秘书长）构成。
管理者精通专业、生产经营管理经验丰富且年轻有为，由刘钠（材料专业学士学位；企业管理硕士研究生；中石化工程建设公司企业发展部部长、支部书记；中石化工程建设公司多种经营处处长）担当。
市场营销队伍精通应用、熟知工艺、更有渠道优势，以郝美功（洛阳单晶硅分厂厂长）、陈浩（美国抛光系列产品上海销售主管）、张志华（中科院半导体集成电路研究室主任）三人为核心。
技术与服务由多年从事本系列产品研发与应用的技术人员来领衔，技术精湛、业务水平高。他们是檀柏梅（副教授/博士；河北工业大学微电子所）、张存善（设备主管/教授；河北工业大学微电子所）、张楷亮（研究员/博士；河北工业大学微电子所）。
另外，我们的团队核心凝聚力强、文化层次高、年龄结构合理。这都为企业的发展奠定了基础。
1.7 商业计划目标
1.7.1 总体目标：
计划初期总投资5000万元，进行系列产品的规模化生产，五年内实现年销售额上亿元。并选择适宜时机扩大生产规模，提高市场占有率。
1.7.2 经济目标：
在今后五年内累计实现销售收入28 500万元，累计实现净利润12 412.4万元，投资回报率高达40.3%。
1.7.3 技术、质量指标：
项目产品已经达到ISO9001：2000版标准。
投产前，制定符合用户需求的企业标准。
按信息产业部电子化工标准规范要求，将样品送质检机构和用户进行验证，符合用户要求。
1.7.4 阶段目标：
2003年12月31日：
完成公司组建工作，制定发展目标和经营思路。
2004年 6月30日：
完成厂区建设与生产线安装调试，完成公开招聘工作，初步完成企业资源计划管理信息系统，初步完成销售体系建设。
2004年10月31日：
完成服务体系建设。
1.7.5 进展情况：
到目前为止，公司的前期组建工作已经展开，技术鉴定及其价值评估已初步完成，相应的政府支持政策也已落实到位，为融资工作以及下一步公司业务的全面展开打下了良好的基础。
1.8 提供的利益
本项目由投资方投入启动资金5000万元，投资方拥有5000万普通股，占公司总股本66.67%。根据对未来几年公司经营状况的预测，公司能保持较高的利润增长，投资回收期为4.58年。拟从净利润中提取合理化比例的资金作为股东回报，从第三年开始每年股东红利为净利润的30％。
1.9 实施的风险
本项目风险主要表现为产品推广过程中因必须针对每个厂家作适应性技术实验研究而可能存在的营销成本较高的非技术性风险。
1.10 资本结构
股东名称
资本种类
出资额（人民币）
股份比例
出资方式
投资方
普通股
5000万货币
66.67%
货币
技术方
普通股
2500万知识产权技术入股
（包括产品工艺技术、市场知名度、社会关系等）
33.33%
技术专利
（具体见附录）
1.11 资本退出
我们的资本退出战略主要有公司上市、股权让购与股权回购等三种形式。

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商业计划书-产业背景与公司概述 -11-
第二章、产业背景与公司概述
2.1 产业背景
2.1.1 市场描述
我方产品主要应用于半导体材料，半导体器件厂，正扩大应用于电视机玻壳厂，液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具、提高二次采油率等领域且均具有大量需求。产品目前具备国内外领先水平，是更新换代新产品，除在国内市场取代美日产品外，将来还可以出口创汇争取占领国际市场。本产品如果经调整参数、做适应性试验对多种被加工材料均可大幅度提高效率和质量。
目前我们的主打产品拋光液是IC CMP制程最重要的耗材之一，约占CMP制程50%的耗材成本。目前全球CMP拋光液的市场约有5~6亿美金，预计在2005年达到11~12亿美金的市场规模；预计在2005年大陆与台湾的市场将成长至15亿元人民币。CMP制程已是IC制造不可或缺的一道工序，而Solid State Technology更预计大陆与台湾將成为全球IC的制造中心，于2010年將可达全球总产量的一半；随着两岸半导体产业的蓬勃发展，CMP拋光液的前景是可以乐观预期的。CMP拋光液全球仅有少数供应商，国內半导体厂的需求基本依赖进口，CMP拋光液有使用寿命的限制，其品质与性能会随时间而劣化，因此相较于国外进口的CMP拋光液产品，本土的公司除可提供最新鲜的产品外，适宜的价格、迅速的送货服务与及时且专业的技术支持，更是国外供应商所不能及的。作为一家高新技术企业，我们一直致力于微电子行业中大规模、超大规模集成电路加工过程中的基础材料的制备、加工、检测以及外延材料性能与结构优化等技术和产品的研究、开发、生产及推广。
未来，随着集成电路铜布线制作为代表的微电子第三代布线工艺的广泛应用，“无离子FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜（Cu）布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液”将是我们重点推广产品。超大规模集成电路（ULSI）是国家“十五”期间的重大攻关项目。ULSI每个芯片集成度最高可达几十亿个元器件，特征尺寸已进入纳米级，这使得ULSI多层布线金属正由传统的AL向Cu转化，这样可使布线层数减少一半，成本降低30％，加工时间缩短40％， 2003年国际上已开始规模应用。
2.1.2 主要的竞争对手
我方产品的主要竞争对手如下：
Ø 国外：美国Cabot与Rodel、日本Fujimi与“花王”以及德国Bayer。
Ø 国内：山东大学、天津试剂一厂。
2.1.3 市场驱动力
集成电路是信息技术产业群的核心和基础。建立在集成电路技术进步基础上的全球信息化、网络化和知识经济浪潮，使集成电路产业的战略地位越来越重要，对国民经济、国防建设和人民生活的影响也越来越大。《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十个五年计划的建议》中明确提出了"以信息化带动工业化，发挥后发优势，实现社会生产力的跨越式发展"和"加快发展软件产业和集成电路产业"的迫切任务，后又特发了国务院《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》（国发[2000]18号），为软件和集成电路产业提供了政策保障。因此，发展我国集成电路产业是推动国民经济信息化的重要保证，是信息产业发展的重中之重。
多年来，世界集成电路产业一直以3-4倍于国民经济增长速度迅猛发展，新技术、新产品不断涌现。目前，世界集成电路大生产的主流加工工艺技术水平为8英寸，0.35-0.25微米，正在向0.18微米、0.15微米、12英寸加工工艺过渡。2000年世界半导体产值达2000亿美元，而以集成电路为基础的电子信息产品的世界市场总额超过1万亿美元，成为世界第一大产业。据国外权威机构预测，未来十年内，世界半导体的年平均增长率将达15%以上，到2010年全世界半导体的年销售额可达到6000~8000亿美元，它将支持4~5万亿美元的电子装备市场。集成电路的技术进步日新月异。目前世界集成电路大生产的主流技术为8英寸0. 25微米，正在向12英寸0.18微米过渡，根据美国半导体协会(SIA)预测，到2010年将能达到18英寸0.07~0.05微米。集成电路的技术进步还将继续遵循摩尔定律，即每18个月集成度提高一倍，成本降低一半。
我国集成电路产业经过30多年的发展，尤其是"七五"以来，我国加强了集成电路产业的建设，初步形成了由7个芯片生产骨干企业、十几个封装厂、近百家设计公司（中心），以及若干个关键专用材料和设备制造厂构成的产业群体。2002年大陆IC产量达96.3亿颗，较2001年增长51.4％；产值则达人民币1,470亿元，比2001年增加22.5％。 2003年上半年大陆晶片产量可达37亿颗，较2002年同期成长44％。2002年大陆IC销售额增长29.2％，占全球市场的13％，预期未來3年，国内IC市场将维持30％的增长率。
半导体前三大应用领域分別为资讯、通信和消费性电子，中国在这些领域都有极高的增长率。依据中国证券报报道，因外资企业大量将生产基地移往大陆，使大陆成為全球重要生产基地，2002年大陆出口约占全球总出口的5.1%，排名全球第五大出口国（2001年为全球第六大出口国），因此，中国已成为全球重要的半导体市場。由于市场发展潜力巨大，再加上中国政府重点扶持，促使中国半导体市场快速发展。
集成电路市场的巨大发展必然驱动作为集成电路生产过程中必不可少的易耗材料市场的蓬勃发展，而我公司正是瞄准了这部分市场，并开发出了具有国际领先技术的一系列产品。

2.2 公司概述
2.2.1 公司名称及选址
北京晶岭高科技有限责任公司（简称为晶岭高科）；
公司拟选址在北京中关村产业园区微电子园（北京酒仙桥）。
2.2.2 公司性质
有限责任公司
2.2.3 注册资本
拟7,500万人民币。
2.2.4 公司简介
在信息技术日益发展的今天，微电子技术水平的不断提高为信息产业的飞速发展奠定了坚实的基础。正是在这种集成电路产业发展迅猛的大好形势下，作为一家高新技术企业依托于河北工业大学微电子研究所所长刘玉岭教授的研究成果（下详）致力于微电子行业中大规模、超大规模集成电路加工过程中的基础材料的制备、加工、检测以及外延材料性能与结构优化等技术和产品的研究、开发、生产及推广。
公司经营的高新技术产品中有五项获国家发明奖、五项获国家专利、九项获国内外发明展奖、十八项获省部级科技进步奖，并且超过了国内外同类技术与产品，已为国家创造效益上亿元，其中FA/O抛光液、FA/O活性剂属于国家级新产品，被列入国家重点推广计划，开始代替美日进口产品，并已进入国际市场。
高质量的技术和产品需要强有力的技术人员队伍做后盾，他们以不断追求创新和积极向上的团队精神屡创佳绩，力争将公司建设成为微电子技术与基础材料行业中的国际知名企业。公司技术实力雄厚，一些知名企业（包括台湾）慕名前来求助技术和产品。在帮助用户解决产品应用过程中的技术问题的同时，还尽最大可能协助用户攻克其自身在生产中遇到的技术难题，为用户创造了更大的效益，得到用户的一致好评。公司现正积极与海外公司建立技术合作关系，跟踪国际微电子领域的最新动态，开发具有市场潜力的新产品，在技术实力雄厚的微电子研究所的技术支持下，该公司不断推出具有世界一流水平的新产品及换代产品并形成系列化。
2.2.5 企业目标
根据国际集成电路产业的未来发展趋势以及国内外市场的需求情况，我方计划在国家产业政策和行业规划指导下，以科技创新为先导，以市场为导向，以产品质量为重点，以用户为中心，以效率、效益、水平为准则，以步入知识经济企业为管理模式。本着强强联合的原则，由河北工业大学微电子技术与材料研究所负责产品与技术的研发和更新换代，公司负责新产品的产业化、商品化。在不断推广产品在集成电路制造领域应用的基础上，将产品与技术迅速扩展到液晶显示屏、电子玻璃、计算机与电视机玻壳及光学玻璃、高档金属材料加工、油田提高二次采油率等领域，使企业逐步形成规模，力争在短时间内全面替代国外产品，并逐渐进军海外市场。我们的目标是在五年内达到年产值亿元人民币以上。最终将公司建设成为微电子行业专用材料的国际知名生产企业。
2.2.6 公司产品
公司有以下三条主产品线：
1. 以“FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液”为代表的高端产品线。
超大规模集成电路（ULSI）是国家“十五”期间的重大攻关项目。ULSI每个芯片集成度最高可达几十亿个元器件，特征尺寸已进入纳米级，这使得ULSI多层布线金属正由传统的AL向Cu转化，这样可使布线层数减少一半，成本降低30％，加工时间缩短40％， 2003年国际上已开始规模应用，市场约18亿美元／年以上。超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜（Cu）布线化学机械全局平面化（CMP）是今后世界集成电路制造业急待解决的难题，目前世界各国正在封闭研发这一工序所需的抛光材料。
我方在该项目上已率先实现了技术突破，在国际上首次研究成功无离子FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜（Cu）布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液。该产品能有效控制铜离子沾污，具有高速率、低损伤、高选择性，高清洁度等优点，该产品的成功研制标志着我方技术已达到国际领先水平，为微电子第三代布线做出创造性贡献。该成果已在中科院微电子中心国家重大攻关项目“集成电路铜布线制作”中得以应用，取得了很好的效果并完成台湾第一期评估，2002年获天津市发明一等奖，现正申报国家发明奖。
2. 以“FA/O集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”为代表的主产品线
FA/O集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液获国家发明三等奖，其中还应用了1999年获国家发明三等奖的能够提高抛光镜面光洁度的FA/O活性剂。该产品被评为国家级新产品并被列入国家重点推广计划。
本产品由于表面张力低、活性强、易清洗、浓缩度高，便于运输与保存，价格仅为进口产品的1/2，已经在国家微电子一级企业中国华晶电子集团公司、国家最大硅材料厂络阳740厂、深爱半导体有限公司、吉林华微电子集团等十几条引进生产线上开始取代在世界微电子行业一直占霸主地位的美国Rodel公司的Nalco系列产品。现已开始向台湾出口并签订代理销售合同，为国家节省了大量外汇并创汇。
FA/O系列纳米磨料抛光液2001年被列入天津市“十五”重大攻关项目，获得无偿资助100万元。
3. 以“FA/O电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的换代产品线
Ø FA/O电子材料清洗剂
FA/O电子材料清洗剂，其金属离子含量远远低于世界知名的美国Parker公司和日本“花王”的产品，而且它属于环保型水基清洗剂，完全可代替微电子用1、2、3号液及氟里昂、三氯乙烷等ODS清洗剂，能够有效地清洗ULSI衬底、电子玻璃及LCD屏等固体表面上的金属离子、有机、无机杂质和固体粒子，与同类产品相比具有清洗时间短、渗透力强、浓缩度高、使用方便、安全、无毒、对人体无危害、对环境无污染、对大气臭氧层无破坏作用等优点。已被国家指定的ODS检测机构信息产业部46所检查确认：该产品达到国际先进水平。为我国电子行业取代破坏臭氧层的ODS产品做出了贡献，具有巨大的社会效益。本产品现已被我国大型的LCD生产厂家深圳天马微电子公司、河北冀雅电子有限公司（MOTOROLA指定生产厂）等多家公司确认为指定清洗产品。在ULSI衬底抛光片清洗工艺中采用FA/O电子材料清洗剂，可有效控制镜面吸附状态长期处于易清洗的物理吸附状态，在该项目提示的技术理论发明的指导下，硅单晶片抛光后存放时间由正常不足四小时，增至68小时，实现了集中清洗，大大提高了效率，节省了大量人力、物力（化学试剂、电、去离子水等），工艺简化，省去了效率低（一片一片依次清洗）、造成损伤、返修率高、价格昂贵（30多万美元/台）、工艺复杂的双面刷片机工艺。仅节省刷片及工艺一项就为国家节省外汇5900多万元。
随着科学技术的进步，微电子行业取得迅猛发展，既使在第三世界国家电子产品也开始步入家庭，未来的二十一世纪将是一个电子竞争的时代。作为微电子产品加工过程中重要消耗材料之一的清洗剂，需求量将越来越大。FA/O电子材料清洗剂除能代替进口产品外，还可大量出口，仅台湾地区的年需求量就可达数千吨。该产品市场前景广阔，市场需求数量很大，是急待推广的高科技产品。
Ø 微电子材料系列辅助产品
除上述产品外，我方已研发成功的微电子材料系列辅助产品还包括： 半导体材料切削液、倒角液、磨削液等。以上产品均采用化学渗透和机械作用相结合的机理，代替了单纯以强机械作用为机理的相关产品，应力小，损伤层小，有效控制碎片，提高效率，增加刀具寿命，是很好的更新换代产品。 以上系列产品已开始与同类进口产品争夺市场，引起了美、日等国公司的高度注意。我们的产品在质量与价格上有明显优势。
2.2.7 知识产权情况
本项目系列产品均为河北工业大学微电子研究所所长刘玉岭教授发明并开发，属自主开发。
2.2.8 技术成熟性和产品可靠性论述
我方技术成熟，产品可靠性强，在集成电路与基础材料工程技术、多种材料的更新换代、技术创新等方面取得多项重大发明成果，如IC硅单晶衬底材料抛光与检测新技术及清洗材料，硅外延材料制备新技术，硅／硅材料新键合技术，硅单晶片新型抛光材料，IC衬底材料有害金属杂质与二次缺陷控制新技术等。获国家专利五项，获国家发明奖五项（包括FNO－MOS型抛光液82年获国家发明四等奖；硅外延BC技术87年获国家发明三等奖；硅器件衬底滑移线消除技术90年获国家发明四等奖；FA/O无磨料均腐蚀抛光液90年获国家发明三等奖；用化学方法提高固体表面光洁度99年获国家发明三等奖），省部级科技进步奖十八项，国内外发表技术论文100多篇，部分成果取代了国外先进产品与技术，实现了更新换代。FA/O抛光液可代替美、日进口产品，并开始打入国际市场。另外，研制的ULSI多层布线SiO2介质化学机械全局平面化科研成果已通过国家鉴定。2000年获国家科技部科技型中小企业创新基金100万元，2001年获天津市重大攻关项目无偿资助100万元。我方已完成批量规模生产，2001年已经通过ISO9001（2000版）质量认证。多年以来未出现任何因质量问题而退货的情况，用户满意率为100%，并被美国MOTOROLA公司确认为指定产品。其技术及产品已在冀、京、津、沪、苏、浙等十多个省市的引进生产线上取代了美、日进口产品，实现了更新换代，为国家创造效益近亿元。
2.2.9 环境保证与劳动安全
不存在工业污染，不存在危险物品，能够保证生产人安全。
2.2.10 特殊行业许可证报批情况
本项目系列产品不是特殊行业产品，属于电子化工材料，系列产品不是最终产品，不需要特殊的许可证管制，在生产销售中，按用户要求和有关安全规定组织生产和销售即可。
2.3市场开发策略
我方系列产品可广泛应用于国内外各微电子产品生产线。国内各大集成电路（IC）生产企业是我们已渐开发并有待拓展的第一市场。目前，占世界IC加工量第三的我国台湾地区将是我们进入的第二市场。随着生产规模的不断扩大，逐鹿国际市场将是我们的第三个目标。随着公司的发展，产业结构多元化，可逐步拓展民用市场。
我方产品现已渐渐在大型企业的进口生产线上取代美日进口产品，主要用户有中国华晶电子集团公司、北京有研硅股份有限公司、天津Motoro1a公司、洛阳740厂、河北冀雅电子有限公司、天马微电子科技公司、深爱半导体厂、吉林华微半导体厂等。
今后，国内将加大向上海华虹电子集团、北京首钢日电、上海先进半导体有限公司、上海贝岭微电子制造有限公司、华越微电子有限公司、宁波浙大海纳半导体有限公司等企业抛光液市场的推广；逐渐扩大广东、江苏、福建、吉林等地区的电子清洗液市场；继续加大上海、浙江、河南、河北、陕西等地区的磨削液相关产品的推广；大力推进各大油田提高采油率的活性剂及各种替代ODS清洗剂的市场；同时加大我方部分产品对台湾地区及国外的规模出口。
当前，发明人主要从事科研开发，各产品的销售属于被动营销，极大的影响了产品的销售工作。今后将通过我们的市场营销队伍来进一步调研国内市场。找出关键用户，重点突破，取得经验，逐步扩展，分类实施，以扩大销售。目前公司产品的主要用户——中国华晶电子集团公司、洛阳740厂等均已做完了适应性试验，并已成批应用。这些单位是国家大型企业，影响面大，有代表性，为规模生产后大面积在全国推广打下了极为有利的基础。

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商业计划书-市场调查和分析 -17-
第三章、市场调查和分析
我方研发经营的高新技术产品主要用于半导体器件超大规模集成电路（简称ULSI）衬底硅材料单晶片的抛光；超大规模集成电路多层布线中介质电极金属布线全局平面化的抛光；以及电子玻璃及液晶显示器（LCD）等的抛光及清洗工序。超大规模集成电路的加工都要以抛光好的硅片作为其基础。硅片的制造要经过拉单晶、单晶切片、磨片、倒角、抛光、清洗等工序，最终产品的成品率主要决定于硅片抛光后的光洁度及平整度。半导体材料切削液、倒角液、磨削液、抛光液和清洗剂是硅片加工过程中必不可少的原料耗材，其品质和性能的高低直接决定了硅片抛光的成品率。抛光液的性能低下不仅影响生产效率，更造成了大量的废片，由于硅片成本很高，给企业带来巨大的经济损失，所以硅片抛光的成品率已经成为衡量世界各国微电子水平的重要标志。
超大规模集成电路（ULSI）衬底材料加工的高洁净、低损伤、高平整、高完美是保证硅片抛光成品率的重要技术指标。我方通过选择高质低价环保型的材料对以上四项关键技术难题进行了技术创新，取得了多项突破性成果，形成了拥有自主知识产权的技术与产品。
本系列产品主要包括半导体器件超大规模集成电路FA/O系列半导体材料抛光液、高纯多功能非离子界面活性剂、系列电子清洗剂、铜抛光液、切削液、磨削液、倒角液等产品及相应的使用技术。其中有五项获国家发明奖、五项获国家专利、九项获国内外发明展奖、十八项获省部级科技进步奖，并且超过了国内外同类技术与产品，为用户创造效益近亿元。FA/O抛光液属于国家级新产品，并被国家科技部、国家劳动部、国家技术监督局、外国专家局、工商银行列为国家级科技成果重点推广计划，已在一些国家大型企业替代了美国、日本进口产品，并已开始进入国际市场。电子清洗剂2001年被国家五部委（国家科技部、国家税务总局、外经贸部、国家质量监督检测检疫总局、国家环保总局）确定为国家级重点推广新产品。
3.1 客户
1. 大陆地区客户
我方产品在大陆地区已发展或潜在的客户按产品系列划分如下：
Ø FA/O抛光液、磨削液、切削液、清洗剂、FA/O活性剂
主要客户为洛阳740厂、华山741厂、峨眉739厂、开化601厂、北京有研硅股份有限公司、无锡华晶电子有限公司、吉林华微电子有限公司（908）、浙大海纳股份有限公司、西安卫光电子有限公司、深圳深爱电子有限公司、上海硅材料厂、秦皇岛硅材料厂、天津环欧硅材料厂等国家大中型微电子企业，以及以北京东方电子厂、石家庄无线电二厂、横阳无线电厂、丹东电子厂、江苏启东捷捷微电子公司等众多中小型企业和众多民营企业。
Ø ULSI多层铜布线、介质CMP抛光液、清洗剂
主要是以上海贝岭、北京有研硅股份有限公司、浙大海纳股份有限公司、上海华虹（909）、首钢日电、吉林华微电子有限公司（908）、浙江华越（907）、上海宏力、MOTOLOLA（天津）、上海中芯、上海先进、北京信创、杭州士兰等投巨资兴建的8英寸、6英寸生产线为代表的巨型企业，如考虑到从2003年国际上开始规模使用铜布线的市场，而我方产品在全世界的ULSI多层铜布线CMP抛光液领域技术和时间上的领先性，必将给我们带来众多的战略性客户。
Ø FA/O LCD 清洗剂、电子玻璃清洗剂
主要有广东省深圳天马微电子有限公司、河北冀雅微电子有限公司、陵达微电子有限公司为代表的计算器、手表、手提电话、掌上电脑（PDA）、笔记本电脑液晶显示器以及其它液晶显示器企业。
Ø 替代ODS清洗剂
由于我方产品性能上的优越性，产品可扩展领域十分广泛，如高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具、提高二次采油率，以及世界清洗行业推动的替代ODS清洗剂等领域，这些领域涉及行业、企业众多，我们将拥有庞大的客户群体。
2. 台湾地区客户
目前，台湾地区有两家公司广润科技与微邦科技在生产CMP拋光液及清洗剂等产品，是全球极少数的CMP拋光液专业生产厂家之一，其引进的是美国生产技术，但由于缺少美方关键工艺技术支持，CMP拋光液及清洗剂等产品未能达到设计参数指标，在我方刘玉岭教授的悉心研究指导下，经使用我方活性剂完全解决了台方的技术工艺等问题，并为我方产品在台湾地区的推广奠定了坚实的基础。
3.2 市场容量和趋势
2003年，（1）国内FA/O抛光液、磨削液、切削液、清洗剂、FA/O活性剂系列产品市场达亿元；CMP抛光液、清洗剂系列产品市场有5亿元左右；FA/O LCD 清洗剂、电子玻璃清洗剂系列产品市场上亿元；高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具、提高二次采油率以及替代ODS清洗剂等领域市场近十亿元。（2）全球CMP拋光液的市场约有5~6亿美金；ULSI多层铜布线CMP抛光液市场也需求急速增长。
未來3年，国内IC市场将维持30％的增长率，同比带动其相关耗材的市场增长。预计在2005年仅CMP拋光液的全球市场就可达到11~12亿美金，大陆与台湾的市场将成长至15亿元人民币的市场规模。
3.3 同类产品指标对比
通过国家科委定点单位天津市科学技术信息研究所查新报告和专家鉴定结论确定本项目属于国际先进水平、部分参数国际领先。
与国内外主要产品先进技术的对比（各举一例）如下：

1. 国际先进ULSI多层铜布线CMP介质抛光液对比

单 位
项 目
河北工业大学
美国Cabot
备注
机理模型
强络合、低氧化模型
强机械研磨模型
机械研磨易划伤、损伤层大
磨 料
水溶胶
煅制的Al2O3
煅制成本高
磨料粒径
15-20 nm
400 nm
磨粒大抛光质量低
PH值
9-10
2-3
酸性易腐蚀设备
选择性
60：1
40：1
选择性高，平整度好
抛光速率
800-900nm/分钟
200-300 nm/分钟
速率大效率高
增膜剂
无
苯丙三唑
增膜剂成本高，速率低，工艺复杂
铜离子控制
自主发明的螯合剂
无
铜离子污染重
氧化剂
单一
复合

络合剂
有
无
络合剂降低氧化力，抛光速率快
清洗难度
易
难

损伤层
小
大

价 格
50元/kg
200-400元/kg

2. FA/O抛光液与国际上最先进的产品比较

产 品
项 目
FA/O抛光液
美国Nalco
粒 径（nm）
20-30
50-70
PH值
9-10
10-12
使用温度（℃）
20-80
20-50
清 洗
易