三极管及放大电路基础.pptx
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1、4.1 半导体三极管(半导体三极管(BJT)4.2 共射极放大电路共射极放大电路4.3 图解分析法图解分析法4.4 小信号模型分析法小信号模型分析法4.5 放大电路的工作点稳定问题放大电路的工作点稳定问题4.6 共集电极电路和共基极电路共集电极电路和共基极电路4.7 放大电路的频率响应放大电路的频率响应4.1.1 BJT的结构简介的结构简介4.1 半导体三极管(半导体三极管(BJT)4.1.2 BJT的电流分配与放大原理的电流分配与放大原理4.1.3 BJT的特性曲线的特性曲线4.1.4 BJT的主要参数的主要参数晶体三极管的发明 三极管是具有电流放三极管是具有电流放大作用的半导体器件,由大作
2、用的半导体器件,由肖克利带领的科研团队于肖克利带领的科研团队于1947年在美国的贝尔实验年在美国的贝尔实验室发明的,它开创了微电室发明的,它开创了微电子技术的新时代。子技术的新时代。晶体管之父晶体管之父威廉威廉肖克利肖克利4.1.1 BJT的结构简介的结构简介 半导体三极管的结构示意图如图半导体三极管的结构示意图如图04.1.01所示。它有所示。它有两种类型两种类型:NPN型和型和PNP型。型。两种类型的三极管两种类型的三极管发射结发射结(Je)集电结集电结(Jc)基极基极,用B或b表示(Base)发射极发射极,用E或e表示(Emitter);集电极集电极,用C或c表示(Collector)。
3、发射区发射区集电区集电区基区基区三极管符号三极管符号结构特点结构特点硅平面硅平面NPN管结构管结构三极管具有放大作用的内部条件三极管具有放大作用的内部条件集电区面积大集电区面积大N型硅型硅基区窄基区窄,掺杂浓度最小掺杂浓度最小P型型发射区掺杂浓度最大发射区掺杂浓度最大N型型二氧化硅保二氧化硅保护膜膜CBE1 外加电压外加电压4.1.2 BJT的电流分配与放大原理的电流分配与放大原理发射结正向偏置发射结正向偏置集电结反向偏置集电结反向偏置NPN型直流偏置电路型直流偏置电路ReRcVEEVCC+NPebcN VCVBVE晶体三极管 载流子运动过程载流子运动过程(1)发射(发射区掺杂浓度高)发射(发
4、射区掺杂浓度高)ReRcIE+VEEVCCIBICIEN发射结正偏,所以发射区向基区注入电子发射结正偏,所以发射区向基区注入电子,形成了扩散电流,形成了扩散电流IEN。EPI同时从基区向发射区也有空穴的扩散运动,形成的电流为同时从基区向发射区也有空穴的扩散运动,形成的电流为IEP。ebcNPN但其数量小,可忽略但其数量小,可忽略。所以发射极电流所以发射极电流 I E I EN。(2)复合(基区参杂浓度很低)复合(基区参杂浓度很低)IENReRcIE+VEEVCCIBIC晶体三极管 载流子运动过程载流子运动过程发射区的电子注入基区后,少数将与基区的空穴复合掉,发射区的电子注入基区后,少数将与基区
5、的空穴复合掉,形成形成IBN。ebcNPN(3)收集(集电区面积大)收集(集电区面积大)集电区及基区的少数载流子形成集电区及基区的少数载流子形成的反向饱和电流的反向饱和电流ICBO,可忽略可忽略。因为集电结反偏,收集扩散到集因为集电结反偏,收集扩散到集电区边缘的电子,形成电流电区边缘的电子,形成电流ICN。IENReRcIE+VEEVCCIBIC晶体三极管 载流子运动过程载流子运动过程ICNICBOebcNPN载流子运动过程的动画演示载流子运动过程的动画演示2.三极管的三种组态三极管的三种组态共集电极接法共集电极接法,集电极作为公共电极,用,集电极作为公共电极,用CC表示表示;共基极接法共基极
6、接法,基极作为公共电极,用基极作为公共电极,用CB表示。表示。共发射极接法共发射极接法,发射极作为公共电极,用,发射极作为公共电极,用CE表示;表示;BJT的三种组态的三种组态3.电流分配关系电流分配关系根据传输过程可知根据传输过程可知 IC=ICn+ICBO通常通常 IC ICBOIE=IB+ICIENReRcIE+VEEVCCIBICICNICBOebcNPNEPI 为电流放大系数,为电流放大系数,它它只与管子的结构尺寸和掺只与管子的结构尺寸和掺杂浓度有关,与外加电压杂浓度有关,与外加电压无关无关。一般。一般 =0.9 0.99根据根据IE=IB+IC IC=InC+ICBO且令且令3.电
7、流分配关系电流分配关系ICEO=(1+)ICBO(穿透电流)(穿透电流)是另一个电流放大系数,是另一个电流放大系数,同样,它也只与管子同样,它也只与管子的结构尺寸和掺杂浓度有关,与外加电压无关。的结构尺寸和掺杂浓度有关,与外加电压无关。一一般般 1 可见,无论哪种连接方式,可见,无论哪种连接方式,BJT在发射结在发射结正偏,集电结反偏且电流放大系数不变时,输正偏,集电结反偏且电流放大系数不变时,输出电流都正比与输入电流。如果能控制输入电出电流都正比与输入电流。如果能控制输入电流,就能控制输出电流,因此流,就能控制输出电流,因此BJT为为电流控制电流控制器件器件。3.电流分配关系电流分配关系RL
8、ecb1k 图图 03.1.05 共基极放大电路共基极放大电路4.放大作用放大作用若若 vI=20mV使使当则则电压放大倍数电压放大倍数VEEVCCVEBIBIEIC+-vI+vEBvO+-+iC+iE+iB iE=-1 mA,iC=iE =-0.98 mA,vO=-iC RL=0.98 V,=0.98 时,时,综上所述,三极管的放大作用,主要是依综上所述,三极管的放大作用,主要是依靠它的发射极电流能够通过基区传输,然后到靠它的发射极电流能够通过基区传输,然后到达集电极而实现的。达集电极而实现的。实现这一传输过程的两个条件是:实现这一传输过程的两个条件是:(1)内部条件:内部条件:发射区杂质浓
9、度远大于基区发射区杂质浓度远大于基区杂质浓度,且基区很薄,集电区面积大。杂质浓度,且基区很薄,集电区面积大。(2)外部条件:外部条件:发射结正向偏置,集电结反发射结正向偏置,集电结反向偏置。向偏置。4.1.2 BJT的电流分配与放大原理的电流分配与放大原理vCE=0V+-bce共射极放大电路VBBVCCvBEiCiB+-vCE iB=f(vBE)vCE=const(2)当当vCE1V时,时,vCB=vCE-vBE0,集电结已进入反偏状态,开始收,集电结已进入反偏状态,开始收 集电子,基区复合减少,同样的集电子,基区复合减少,同样的vBE下下 IB减小,特性曲线右移。减小,特性曲线右移。vCE=
10、0V vCE 1V(1)当当vCE=0V时,相当于发射结的正向伏安特性曲线。时,相当于发射结的正向伏安特性曲线。1.输入特性曲线输入特性曲线4.1.3 BJT的特性曲线的特性曲线(以共射极放大电路为例)(以共射极放大电路为例)(3)输入特性曲线的三个部分输入特性曲线的三个部分死区死区非线性区非线性区线性区线性区1.输入特性曲线输入特性曲线4.1.3 BJT的特性曲线的特性曲线饱和区:饱和区:iC明显受明显受vCE控控制的区域,该区域内,制的区域,该区域内,一般一般vCE0.7V(硅管硅管)。此时,此时,发射结正偏,集发射结正偏,集电结正偏或反偏电压很电结正偏或反偏电压很小小。iC=f(vCE)
11、iB=const2.2.输出特性曲线输出特性曲线输出特性曲线的三个区域输出特性曲线的三个区域:4.1.3 BJT的特性曲线的特性曲线截止区:截止区:iC接近零的接近零的区域,相当区域,相当iB=0的曲的曲线的下方。此时,线的下方。此时,vBE小于死区电压小于死区电压。放大区:放大区:iC平行于平行于vCE轴的轴的区域,曲线基本平行等距。区域,曲线基本平行等距。此时,此时,发射结正偏,集电发射结正偏,集电结反偏结反偏。测量三极管三个电极对地电位,试判断三极管的工作状态。放大截止饱和-+正偏正偏反偏反偏-+-正偏正偏反偏反偏+-放大放大VcVbVe放大放大VcVbIB,此时,此时,不随温度变化而变
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