新型光电子材料氧化钒.pptx
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1、新型光电子材料氧化钒氧化钒氧化钒氧化钒是一种变价氧合物,例如三价(V2O3)、四价(VO2)和五价(V2O5)钒的氧化物。氧化钒可以在半导体半导体-金属金属-绝缘体绝缘体之间可逆转变。V2O3低于-123 下为半导体,高于-123 转变为金属,在金属态时外加电场或磁场将转变为绝缘体,去掉电磁场后又可逆转变为金属。VO2的临界温度为68 V2O5的临界温度为257 上述3种材料亦可掺杂,使得临界温度点和半导体的载流子浓度改变。半导体-金属-绝缘体之间的转变是高速的,在临界点附近,半导体-金属相转变时间为纳秒量级,金属-绝缘体相转变亦为纳秒量级氧化钒系材料的光学特性临界温度以下半导体相高迁移率和透
2、射率;临界温度以上金属相对光高反射,低透过率;处于金属态时,在电场或磁场的作用下降转变为绝缘体,而当电磁场取消,又恢复到金属态即开关特性开关特性氧化钒材料的应用方向一、智能节能玻璃 利用VO2薄膜制成的玻璃材料,低温时,可见光和红外线均可透过;高温时,仅可见光透过。二、非制冷红外焦平面传感器材料VO2 薄膜具有高电阻温度系数、高电阻率、低热导率、低噪声系数、高动态响应和线性响应,因此VO2 目前为首选的热敏电阻型非制冷红外焦平面阵列,可以制备非制冷红外焦平面列阵的红外探测仪。今年武汉开建国内首条红外焦平面探测器生产线。三、智能强激光防护材料利用激光辐射可激发相变的特点,将 VO2 薄膜作为红外
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