Ipcq检测室硅块检测流程.doc
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1、Ipcq检测室硅块检测流程:硅块转入外观检查垂直度检查边宽/长度检查导电类型检查电阻率检查红外探伤检查少子寿命检查硅块鉴定硅块转出硅块检查操作指导环节1. 外观检查1.1 确认所送硅块箭头标示与否清晰,每个硅块随工单信息填写与否完整,且与硅块表面标示信息(硅锭号与硅块号)与否一致,以及确认边角料数量。1.2与制造部送检人员共同确定每个硅块外观质量状况,如有崩边、崩块等外观问题,使用游标卡尺测量缺陷长度(沿硅锭长晶方向测量),并把这些信息精确填写在品质登记表上和对应硅块随工单上。2. 垂直度检测2.1 抽样措施:小硅块(16块)测A1,C6,C11,A16;大硅块测A1,C7,C13,C19.A
2、25,进行检测硅块垂直度。2.2 使用万能角度尺测量硅块四个侧面垂直度,即相邻两侧面间垂直度,每个抽样硅块测量任意三个角垂直度,每个角从硅块头部到尾部至少均为测量三次,并将检测数据记录于硅块检测登记表中。2.3 将万能角度尺两臂紧贴硅块相邻两侧面,若臂于硅块表面接触存在空隙,鉴定硅块为“S”型硅块。3边宽/长度检查3.1 使用游标卡尺(精确度=0.02mm)测量抽样硅块边宽尺寸,每个硅块测相邻两边宽,用游标卡尺量爪在硅块两侧面进行测量使硅块各部位边宽尺寸都测量到。3.2 如发既有某一硅块边宽尺寸超过原则,必须加抽该硅块所在多晶硅锭位置垂直两条线其他硅块边宽尺寸。3.3 使用直尺(精确度=1mm
3、)测量所有硅块长度;选择硅块尾部至头部中一棱边,使用直尺测量此棱边长度,测量完后在所测量棱边上做记号,并检查数据记录于硅块检测登记表中。4. 导电类型检查4.1 使用半导体导电类型检测仪全检硅块各侧面导电类型,即硅块P/N类型。4.2测量时硅块任选一侧面为测量面,根据测量长度选用测试点,选用测试点方式根据多晶硅锭电阻率抽样登记表中长度比例进行选定。(备注:1.使用直尺确定对应尺寸测试点。2.测试点须在硅块侧面中部,即边宽中心线正负25mm内。)4.3 使用半导体导电类型测试仪在选用测试点进行导电类型检测, 并将检测数据记录于多晶硅锭电阻率抽样登记表中。5 电阻率检查5.1 使用电阻率测试仪检查
4、硅块电阻率大小,小锭硅块按照A1,C6,B9,C11,A16进行抽样检测;大锭硅块按照A1,C7,C13,C19,A25进行抽样检测。5.2 测量是硅块人选一侧面,根据测量长度选用测试点,选用测试点方式根据多晶硅锭电阻率抽样登记表中长度比例进行选定。(备注:1:使用直尺确定对应尺寸测试点。2:测试点必须在硅块侧面中部,即边宽中心线正负25mm内)5.3 使用电阻率测试仪在选用测试点进行电阻率测试,读取测试仪上显示电阻率大小,并将检查数据记录于多晶硅锭电阻率抽样登记表中;计算平均值并记录于硅块检测登记表中。5.4 测试注意事项:电阻率测试点选用后,头部第一种测试点处不需要测试,其他选用点都需要测
5、试。6 红外探伤6.1 使用红外探伤测试仪全检硅块内部缺陷状况。6.2 硅块测试准备:用无水乙醇将测试硅块四个侧面擦拭洁净,将擦拭洁净硅块放在红外探伤测试台上,放置方向为底部朝下,头部朝上。6.3 确认内部缺陷:通过内部缺陷影像图,确定硅块内部存在缺陷后,观测内部缺陷在图像监控器上位置,是用记号笔在硅块表面做好标识;用记号笔在黑色阴影部分上下边缘处画标识线,上下画线处规定阴影部分2-3mm(备注:内部缺陷在距硅块头部或尾部20mm内,不需要画线)。6.4 缺陷图像保留:将检查硅块内部存在缺陷图像保留在测试仪内。6.5 标明缺陷范围:完毕该硅块四个侧面检测后,将硅块搬到工作台上根据标识线划线标识
6、,缺陷长度20mm时,使用直尺把以上所有短线标识画长,并用直尺(精确度=1mm)量出缺陷长度,并标明原因、长度于硅块表面。6.6 图像保留注意事项:如下标识硅块必须保留:1.大硅块中B2、C7、C12、C17、B22必须保留四个侧面图片。2.小硅块中B2、C6、C10、B14必须保留四个侧面图片。7 少子寿命检查7.1 使用少子寿命测量仪抽样检测硅块少子寿命,详细抽样措施根据多晶硅块Lofetome抽样措施进行抽样检测。抽样措施如图:7.2 硅块测试准备:用无水乙醇将测试硅块一种侧面擦拭洁净,再放入测试仪器平台上;放入时,擦拭侧面朝上,硅块头部放在测试员左侧,使测试仪从硅块头部开始测试。7.3
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