Abstract提取LEF说明培训讲学.docx
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1、Abstract提取LEF说明精品文档 Abstract 提取LEF详细说明 以我实际项目PLL_TOP_RAD_V2为例:需要提取LEF所需要的GDS (PLL_TOP_RAD_V2.gds) , gds相对应的的map file(hlmc55dr.layermap) , 以及tf (HL55LP_HS_RVT_V1p2d.tech.lef)1. 第一步,启动软件,终端窗口输入 abstrct 启动软件,点击菜单File-New,新建一个名为PLL_TOP_RAD_V2的库,点击“OK”完成。2. 导入提取所需要的工艺LEF 和gds文件。LEF导入:点击File-LEF ,在 Import
2、 LEF窗口中输入所需要的tech.lef文件名及正确的路径。确认View : abstract , 勾选上Overwrite ,点击“OK”完成导入LEF文件。如果这步有警告或者错误请务必排查出问题所在,不然后面的步骤很难顺利完成。 GDS以及MAP导入:在GDSII Filenames中输入framview gds 文件的路径及文件名。 Layer Map Table 一栏中输入工艺对应的map 文件,点击“OK”完成。4.选中导入进来的Core中的CELL 点菜单Cells - Move. , Move Selected Cells 到Block, 点击OK 完成。把PLL_TOP_RA
3、D_V2 单元从 Core移到了Block。5. 接下来的步骤进入到FLOW的流程,一步一步的完成。 首先是Flow - Pin ,Map 一栏,详细情况如下图:在 Map 栏中,Map text labels to pins 中 (M3 M3) 说明,第一个M3指版图中我用的M3层打的pin,第二个M3就是金属三那一层,意思是我M3的pin 我用的M3 去打的label 。(可明白?)其它工艺有可能是(M3txt M3)的表述,具体取决于你map 和lvs rule里面所有定义层的pin 在做LVS能够识别到的label 所打的层。因为我这个工艺只用到了M3 M2 M1这三层金属打label
4、是识别pin, 所以我没有M4以上的 标注。Power/Ground pin names (regular expressions) :表述IP中的的电源/地的pin的名称。Clock pin names (regular expressions): 表述CLOK信号Analog pin names (regular expressions):表述模拟pinOutput pin names (regular expressions):表述输出pin 如果以上没有说明在产生的lef中(如下图)的USE一项,可能不是POWER /GROUND / CLOCK /ANALOG的标识,统一是USE S
5、IGNAL,DIRECTION 标识将都是INPUT。LEF中将不能区分信号的输入输出,以及功能区分,用于时钟、电源还是模拟信号。Boundary : 如下图在 Create boundary 一栏 选择 “always”,该设置强制生成符合布局布线的边界。 在 Using geometry on layers ,该栏中输入作为LEF边界的层,该参数强制abstract 工具产生与framview多边扩展后的等价的布局布线边界。(疑问:只能是矩形?多边型的framview不能产生多边型的lef ?)LEF中OBS所包含的层取决于此选项中所填写的金属层信息(通孔除外)。例子中RDL层在我gds里
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