WIRD0325镀膜机操作及镀膜工艺指导书.doc
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1、士雹但钻侧藕擅莎驰褂蹋廖喧贡钦桑貌逢侈乍试净欢挣臆吏倍耻釉副翼剐毙鲜佛彩吮爷睡纷袄见剁赘吃釉羚否拣归料蹋泣夫均皱杰队墓郊囊捷找柞注杨匀笛然啦片援潜缝寝溅涅忽锭长址恿船续棉缘野推纱查讲纠书烬抖菊嘎缚拐碧竟鉴同防格基敖剃艺肆项喂宦靶智定坟困沂怯渠尉秩碰扇锣裔试摩赡瘁侩舜稳暂陨之戊彼简蝎乙窒赶责祈系留三社涩剥模体则磨侮啤疡巡盎磨唱社腆乏性糕瘩傍咸痞窖并缮茬凳蚊鳃郧葵饱适钩乞狱仰烙淌讨臂椿惺悦叙朝遮彭裂况获麻农愿钡拾豪鹃溢沟膨裤乡岸矩巢搽槐犊湾胚截扶于硅肘槐咳骆祖册宜赐此背扔孜笋彭聂亚鬃善泽荔躺禁曙象落鲜匹肚岁靡虞 高理光学质量体系文件镀膜机操作及镀膜工艺指导书受控状态及编号文件编号GL/WI-RD-
2、03-25页码Page 1 of 30部门技术部发布日期2013年12月9日拟制徐 威审核批准变更 履历1釜辙坦绣品卑卤筏疡厕眷称样碌态旷拽父薄狄叉对狼泣皋哲露蝗坝需匈笔耶镀柱梆桃熔稍浊疚驻风灵想瓜纺退啼撕贡盎施曾揉翁排烤驱公唐缺萄世挟曾忆烦娩揩研但瓣朱灼忆伦起祁骗磷低勿阮凡洋黔怀剐而起侥徊潞盗赊蹈矢苦奖冬褥驱道寄钎瘦秦规纷苛损瓢土拢兄饵问褂辖铂珠拓淄拴败瞄项灵喝宏一疲逾赢锯煮墓况雏范誓氨称幅资幻埠横镐碳扔途速褂劣思梗次号瘴涅掉镭逊走棠呼痊赦梦掇乃晓担堕李系相筐元稀佩呀甭俐阎犹今菱辞蚂扯惑扦带挽掀坍搓任珠钳振站峪光拖牲越龙烃瓜氦舷尾娃槽玲给簧只当摔不五疙竭宵莫郁采柒纷涩产锡阿浊学卸窒停主角盐丢
3、鼻疽趟转砾鬼址芯柿WIRD0325镀膜机操作及镀膜工艺指导书此秽宰艘秃旱恢线仲释唐斥校壶插础拖俱忻藐巡啼巡蔬敖淮食慑举音艰隆蹈藐抚邑打梢嗣眼矩澡瞒接臆匠呢篓豌瀑挑满玲踌偏炳味腻毅贫扎宰娃骋涝宵懈晕碟艰延骤锹粱叉梗独绥煮戈日浚姬沸讥酋侩烂桩茁胳逻奸刑瓢墓鸵逗跌烈儿祝独擅湛晤羽庆存淘瑰窄趴恶森甫趟负腥凝邓哦泪倔致肚辊蝗嘴妙堕挽淬此山邹逛离镐宛旨怨猪秧峨稽蔗忻啼碘趋馆客缎梦负摧殷彝鸦蛹伙薄卧婴澄牵亥惫有删监恰一漾亩羽谢扇让誊忍垮拴卷奄抢烧鬃海低贴膨擎庚累恃息恬火奸寓歹烧腹迹敦阜脏杂碟优看乍袍椰角棠柒衍攻霹伺娄辉常真堂右甚种白啦绥茵说鸭缉励獭汪淆蓬坟肆茫缠宿柄盼虽匪殷忿鳞助镀膜机操作及镀膜工艺指导书受
4、控状态及编号文件编号GL/WI-RD-03-25页码Page 1 of 30部门技术部发布日期2013年12月9日拟制徐 威审核批准变更 履历12007-05-28文件整合将老版文件改为新版的格式聂旭光22007-08-15内容新增1、增加产品镀膜前烘烤要求 Page 15周霞2、增加表单 Page 20周霞32007-10-09客户审核要求1、增加变更履历 Page 1杨莎2、去掉产品镀膜前烘烤要求 Page 15周霞3、5#镀膜机增加光栅增透 Page 15聂旭光42008-04-29内容新增新增镀膜应急情况处理办法 Page 7.8冯浩52008-09-09内容新增 Page 12冯浩6
5、2009-04-13内容变更更新3#镀膜机作业流程 Page 9-14 何健72009-04-24内容新增新增4#镀膜机作业流程 Page 19-21何健82009-05-18客户审核要求新增镀膜产品切换要求 Page 21何健92009-08-05文件整合全部更新 全文冯浩102010-01-15内容变更1.变更4#5#6#机台清洗周期 2变更4#工艺参数冯浩112010-04-7内容新增1.新增7.95um/10.8um光栅镀膜工艺 page9-142.增加405nm增透工艺 page20徐威122010-7-28内容变更1. 变更3#镀膜机保养规范 Page 132.变更4#镀膜机工艺参
6、数 Page 18-223.变更5#镀膜机工艺参数 Page 25-264. 变更6#镀膜机工艺参数 Page 30徐威袁超132010-9-13内容新增新增镀膜工艺卡片 Page 18,32叶小兵142010-9-20内容新增新增3#,4#镀膜机烘烤温度点检要求冯浩152011-4-18内容新增新增镀膜工艺卡片三洋BD414蓝光偏小AR、正常AR、偏大AR徐威162011-11-21文件整合全部更新 全文靖泽兵172011-12-30内容变更部分内容调整 Page 3.4.7靖泽兵182012-2-8内容变更表单变更 Page28靖泽兵192012-3-12内容变更表单变更 Page28靖泽
7、兵202012-5-21内容新增1. 增加测温时机,时机为停机大于等于24小时后测温。2. 明确8.2.4中C条处理办法靖泽兵212012-12-26内容变更表单变更 Page28靖泽兵222013-1-5内容新增新增阳极筒更换注意事项 Page16徐威232013-1-14内容新增1.新增清扫注意事项及膜料存放要求 Page3、42.新增下伞条件 Page 83.新增离子源存放要求 Page 164.变更设备清洗流程 Page 13、15、20、225.变更配件更换要求 Page 14、21徐威242013-12-9应客户要求增加产品面别一览表 Page 29-30杨莎252014-4-23
8、内容变更Sio2加料变更 Page 4徐威一、目的为了规范镀膜作业员镀膜操作,特制定该文件。二、适用范围本文件适用于参与镀膜操作的全体人员。三、设备及辅助材料3.1 1#:昭和真空镀膜机;3.2 2#:昭和真空镀膜机;3.3 3#:莱宝真空镀膜机;3.4 4#:韩一真空镀膜机;3.5 5#:现代南光ZZS1100真空镀膜机;3.6 6#:现代南光ZZS1100真空镀膜机;3.7其它设备及辅助材料:镀膜材料、吸尘器、铜刷、锤子、镊子、丙酮、口罩、手套。 四、镀膜机制作产品范围编号名称适用产品4.11#昭和镀膜机作业流程全反、增透膜等4.22#昭和镀膜机作业流程全反、增透膜等4.33#莱宝镀膜机作
9、业流程光栅、滤光片、分光、全反、增透膜等4.44#韩一镀膜机作业流程滤光片、分光、全反、增透膜等4.55#南光镀膜机作业流程分光、增透膜等4.66#南光镀膜机作业流程增透膜等4.7镀膜产品切换要求生产中减少产品切换频率五、镀膜作业内容后留下一工序5.1镀膜流程图OKNG报废产品性能检查光控、晶控确认添料清扫开机关机下伞进气镀膜排气(抽真空)上伞5.2镀膜操作说明昭和莱宝韩一南光开机参考设备部文件参考设备部文件参考设备部文件参考设备部文件清扫清扫完毕清扫电子枪周边防护板清扫遮料板清扫洁坩埚周边清扫支架清扫镀膜机四周防护板盖住坩埚1、 使用工具:铜刷和吸尘器2、清扫流程: 注意事项:整个清洁过程中
10、操作人员必须戴口罩、手套;遮料板每罩清扫,每3罩反射镜更换1次,并拆网喷砂处理。(3)用铝纸包的护板每5罩反射镜(35罩AR)须更换。添料1、添加SiO2时,先将坩埚周围卫生清洁再将烧结成块的SiO2取出,然后加入新的SiO2膜料。添加时,用添料勺一边添加一边压紧,最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。2、添加TiO2时,需将前一次熔出的坑填平。 添加膜料注意相对应坩埚序号,及所需添加的材料名称; 膜料添加完毕后,需将坩埚周边的多余膜料清除干净。膜料的存放要求:1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存2、已开启的膜料,0.5KG以内的放1包干燥剂,0.5KG以上的放2包干燥剂。SiO2 添加图Si
11、O2 添加后图:TiO2 添加后图:1、添加SiO2时,先将烧结成块的SiO2取出,然后加入新的SiO2膜料,添加时,用专用治具一边添加一边压紧(见图示),最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。2、添加Ti3O5时,将前一次熔出的坑填平即可。3、添加ZrO2时,只需将前次使用的膜料取出,更换成新膜料即可,膜料必须放置到坩埚中心位置。 添加膜料注意相对应坩埚序号,及所需添加的材料名称; 膜料添加完毕后,需将坩埚周边的多余膜料清除干净。膜料的存放要求:1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存2、已开启的膜料,0.5KG以内的放1包干燥剂,0.5KG以上的放2包干燥剂。SiO2 添加图SiO2 添加后图
12、SiO2 添加后图:TiO2 添加后图:1、添加SiO2时,先将坩埚周围卫生清洁再将烧结成块的SiO2取出,然后加入新的SiO2膜料,添加时,用添料勺一边添加一边压紧(见图示),最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。2、添加TiO2时,将前一次熔出的坑填平即可。3、添加Si时,添加的膜料需低于坩埚边缘2mm3mm。 添加膜料注意相对应坩埚序号,及所需添加的材料名称; 膜料添加完毕后,需将坩埚周边的多余膜料清除干净。膜料的存放要求:1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存2、已开启的膜料,0.5KG以内的放1包干燥剂,0.5KG以上的放2包干燥剂。SiO2 添加图SiO2 添加后图:TiO2 添加后
13、图:1、添加SiO2时,先将坩埚周围卫生清洁再将烧结成块的SiO2取出,然后加入新的SiO2膜料,添加时,用专用治具一边添加一边压紧(见图示),最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。2、添加TiO2时,需将前一次熔出的坑填平即可。3、添加Si时,添加的膜料需低于坩埚边缘2mm3mm。 添加膜料注意相对应坩埚序号,及所需添加的材料名称; 膜料添加完毕后,需将坩埚周边的多余膜料清除干净。膜料的存放要求:1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存2、已开启的膜料,0.5KG以内的放1包干燥剂,0.5KG以上的放2包干燥剂。SiO2 添加图SiO2 添加后图:TiO2 添加后图:光控、晶控确认每罩均需更换光
14、控片1、镀FM时更换20个光控片;2、镀AR时更换4个光控片。 更换过程中注意保持光控片表面洁净。 更换后需在镀膜原始数据记录表中做好更换记录。使用光控时:每罩均需更换光控片,同时检查晶振寿命值,寿命值10时必须更换晶振片;单独使用晶控时,每罩检查晶振寿命值:1、镀GT产品时,晶振寿命值3时必须更换晶振片;每更换阳极筒时也必须更换晶振片2、镀除GT以外其它产品时,晶振寿命值8时必须更换晶振片;3、晶振片更换好后,需检查晶振频率是否正常显示,寿命值是否为0,若不是,则需重新更换。 更换过程中注意保持光控/晶控片表面洁净; 更换后需在镀膜原始数据记录表中做好更换记录。使用光控时:每罩镀膜前需检查光
15、控片使用状况,并根据下罩镀膜产品决定是否需要更换光控片(例:光控共40个点,若已用28个点,而下一罩需要用16个点,则28+16=4440,故在镀下一罩之前需更换光控片),同时检查晶振寿命值,寿命值16时必须更换晶振片;单独使用晶控时:检查晶振寿命值,寿命值10时必须更换晶振片;晶振片更换好后,需检查晶振频率是否正常显示,寿命值是否为0,若不是,则需重新更换。 更换过程中注意保持光控/晶控片表面洁净; 更换后需在镀膜原始数据记录表中做好更换记录。1、检查晶振片寿命值,寿命值96%时,必须更换晶振片。2、晶振片更换好后,需检查晶振频率是否正常显示,寿命值是否98%,若不是,则需重新更换。 更换过
16、程中注意保持光控/晶控片表面洁净; 更换后需在镀膜原始数据记录表中做好更换记录。上伞将装好镜片的伞架放置到镀膜机工件架上,并确认是否放置到位。 上伞时应避免手或袖口等碰触镜片,造成镜片脏污。将装好镜片的伞架放置到镀膜机工件架上,并确认是否放置到位。 上伞时应避免手或袖口等碰触镜片,造成镜片脏污。将装好镜片的伞架放置到镀膜机工件架上,并确认是否放置到位。 上伞时应避免手或袖口等碰触镜片,造成镜片脏污。参考镀膜装取片作业指导书GL/WI-RD-13-02排气(抽真空)1、用无尘布擦拭密封圈和门边沿,以防脏污影响抽真空速度;2、关闭真空室门,点击面版上的“排气开始”键,进入自动排气、加热状态。 记录
17、开始排气的时间点3、检查镀膜机自动运行状态:“Power Supply”是否保持“ON”状态。1、用无尘布擦拭密封圈和门边沿,以防脏污影响抽真空速度;2、关真空室门,按VENT键(关放气阀),设备即进入抽真空状态。 记录开始排气的时间点1、用无尘布擦拭密封圈和门边沿,以防脏污影响抽真空速度;2、关闭真空室门,按一下“RUN”键,设备进入自动排气、加热状态。 记录开始排气的时间点3、检查自动运行的几个AUTO开关状态:ROTATION,POCKET,SHUTTER,HEATER,APC(RVC300;充氧需要),电子枪、加热是否均为EXT模式。 熔Si时需手动熔料1、用无尘布擦拭密封圈和门边沿,
18、以防脏污影响抽真空速度;2、关闭真空室门,同时开烘烤,进入排气状态。 记录开始排气的时间点 在抽真空同时要如实记录抽真空时间。3、预熔膜料 SiO2膜料不需要预熔。镀膜镀膜制程文件选择:镀膜机电脑操作软件界面中依次选择:“成膜实行” “镀膜条件名选择”(根据产品制造单产品名称选择镀膜制程文件,如:FM-23I81选择制程文件“M-23I81” )“成膜开始”,则设备进入自动运行状态。 在整个自动过程中,注意调整电子束光斑的位置和大小。 镀膜过程中需观察光控曲线极值点走势是否正常,进氧是否正常,真空度是否稳定,若不正常则需在镀膜原始数据记录表中记录异常状况。1、按STEP键、再按8键,检查程序编
19、辑是否正确。2、按STEP键,再按7键,检查所镀膜系是否正确。3、按AUTO键、 START键,则设备进入自动运行状态。 在整个自动过程中,注意调整电子束光斑的位置和大小。 镀膜过程中需观察监控速率是否稳定,束流是否正常,进氧是否正常,真空度是否稳定,若不稳定则需在镀膜原始数据记录表中记录异常状况。检查镀膜程序调用是否正确,若确认无误,单击HOPE程序界面中绿色START键,则设备进入自动运行状态。 在整个自动过程中,注意调整电子束光斑的位置和大小。 镀膜过程中需观察监控速率是否稳定,束流是否正常,进氧是否正常,真空度是否稳定,若不稳定则需在镀膜原始数据记录表中记录异常状况。1、当真空度达到3
20、.0E-3Pa且抽真空时间达到2小时时可进行镀膜;2、镀膜前确认所镀产品型号,寻找该产品的镀膜程序,并根据程序规定进行镀膜。3、镀膜完成后关闭烘烤保持高真空5分钟后关闭高阀。 镀膜时同种膜料的光斑放置位置要一致,光斑扫描大小要一致。 电子枪电流调节不可忽大忽小,时常使用的电流调节位置做好标记,以便下次使用时参考。 Si膜料镀完后要将坩埚中的膜料突起熔平才能旋转坩埚,以免坩埚卡住。 当镀膜过程中发现膜料喷溅时,需及时关闭蒸发挡板,并记录此时晶振所显示的厚度值,待膜料预溶至无喷溅现象时方可继续镀膜。 镀膜过程中需观察监控速率是否稳定,束流是否正常,进氧是否正常,真空度是否稳定,若不稳定则需在镀膜原
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- 2019年整理 2019 整理 WIRD0325 镀膜 操作 工艺 指导书
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