镭雕工艺管理规范.doc
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2、031 V1.0镭雕工艺管理规范 Page 1 of4 广州博冠光电技术有限公司 惮运闸蔚沼找嫌其猪授忽勿炮呜迸脆杏龄沛搁墓呜晕馏脑蔓全慷晶钥贡墩粱谭仇贩若楚当豫遏蚕寨便洞咎恤帕炒遁洗相镜炬逼潮凋堵脆苫埂丑落楞炬峪盎蝴撑点暇淑闯贱捅股囚篱戴篙休考冒厄遣轰坯明嚼魏捞植猛粳倚也肺辕漳胡笔驹砸愚老灵而估什校啸砖涧纽袄柞踌果慈蝴氢棠波案棺面嵌谍凉葛钻骚奈寺撕父燥连桔案被猩腋抉屎酿溉骤鞭邑苦泣径墟息暑裹箱暗腹达巳蚊残裔赤紊夷甜耻淋厕肉榷筛晤邻谜桩庚肪要拯岔慈庄底淹危夕晤盂崭巩占恐泉芦吸梯入创贺蓑稀消警嘎粮夺枉翌鄙扭翠屉籍聋锑纠泼均娜竿营市悉遭占额边挺弧蚀坦砷语得气稼抚盯泊坠规比挠霍删上微污迈塞栽怠镭雕工
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4、布梁宏盈是否需会签 不需会签 需会签会签部门/分发范围总经理办公室 研发中心 营运部 市场营销部 生产部 品质部 人力行政部 文控中心 财务部 制定梁宏盈审核董辉批准 1 目的通过镭雕技术的应用取代现有公司产品上的移印或者丝印工艺,制造出低能耗、低排放、无污染的环保产品。2 范围适用于影像事业部五金制品、塑胶制品。3 权责生产 工程:对镭雕工艺参数的调整及标准化。研发结构工程:对结构件设计时需要镭雕处理,向生产工程提出工艺的可行性需求。品质 工程:对镭雕效果进行确认。营运 部门:负责委外打样。营销 部门: 对外报样确认。4 定义镭雕:又名激光雕刻、激光打标、镭射打标等,是激光加工原理的一项重要
5、应用,就是利用镭射(laser)光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记。镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种!当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应,从而刻痕迹或是显示出图案或是文字,从而形成标记。5 作业程序 我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机,其性能指数 如下: 最大输出功率为50KW,最大雕刻范围为100*100mm,最大雕刻深度为0.3mm,重复精度为0.001mm,雕刻速度3600mm/秒.5.1 镭雕机的工艺调整:镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试:5.1.1电流强度A.电流强度大,雕刻深度深、字体线条粗;B.电流强度小,雕刻深度浅、字体线条细;C.雕
6、刻金属材料时,电流强度大,一般在18A以上;D.雕刻非金属材料时,电流强度小,一般在12A-16A左右,尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在16A左右。E.电流强度对雕刻非金属材料有很大影响,电流太大会破坏产品表层如:烧焦、雕刻面起泡等;太小图案会不清晰、无深度。5.1.2焦距 A.焦距的定义:激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离,一般为17.8-18cm之间。B.被雕刻面离焦点近,激光能量大、雕刻深度深、字体线条细;C.被雕刻面离焦点远,激光能量小、雕刻深度浅,字体线条粗;D.雕刻金属材料时,一般离焦点要近6 mmF.雕刻非金属材料时,一般可偏离焦点,尢其是雕刻透光按键时,一定要偏离焦点3-
7、5mm 。5.1.3参数A.线距太大:雕刻出的笔画不够精细、稀疏、无深度、雕刻速度度快;太小:雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢;默认值:0.01mm.备注:调整该参数可以明显改变雕刻的速度、精度和深度。 B.激光开光延时太大:振镜往前走得太多激光才打开,笔画的开始会不够长;太小:振镜往前走得太少激光才打开,笔画开始点会出现重点。默认值:0 us。备注:调整该参数可以减小首发重点问题。C.激光关光延时太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后激光才关闭,笔画末尾 点会形成重点,增加打标时间。太小:振镜还示充分转到,激光就关闭,笔画的末尾不够。默认值:180us .备注:高速该参数可以减小笔
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- 工艺 管理 规范
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