化学镍金工艺介绍省公共课一等奖全国赛课获奖课件.pptx
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1、 苏州市三生电子有限企业化学镍金工艺应知应会化学镍金工艺应知应会第1页 苏州市三生电子有限企业序言1、制程介绍2、药水介绍3、制程管制4、异常改进5、保养事项第2页 苏州市三生电子有限企业制程特征1、在阻焊之后进行选择性镀镍/金,采取挂篮式作业,无须通电2、单一表面处理即可满足各种组装城城需求,含有可焊接、可接触导通、可打线、可散热等功效3、板面平整、SMD焊垫平坦,适合于密距窄垫锡膏熔焊。第3页 苏州市三生电子有限企业化镍、金板镀层厚度要求Ni/P层:3-5um金层:0.025-0.075um第4页 苏州市三生电子有限企业序言1、制程介绍2、药水介绍3、制程管制4、异常改进5、保养事项第5页
2、 苏州市三生电子有限企业药水介绍第6页 苏州市三生电子有限企业酸性清洁剂成份:柠檬酸,表面活性剂第7页 苏州市三生电子有限企业 微蚀SPS第8页酸洗 H2SO4主成份:硫酸作用:去除微蚀后铜面氧化物反应:CuO+H2SO4 CuSO4+H2O第9页预浸H2SO4主成份:硫酸作用:1、维持活化槽中酸度 2、使铜面在新鲜状态下(无氧化物),进入活化槽反应 CuO+H2SO4 -CuSO4+H2O 第10页活化主成份 硫酸钯 硫酸作用 1、在铜面置换(离子化趋势CuPd)上一层钯,以作为化学镍反应之触媒反应 阳极反应 Cu-Cu2+2e-(E0=-0.34V)阴极反应 Pd2+2e-Pd(E0=0.
3、98V)全反应 Cu+Pd2+Cu2+Pd 第11页化学镍作用:在活化后铜面镀上一层Ni/P合金,作为阻绝金与铜之间迁移(Migration)或扩散(Diffusion)屏蔽层。主成份:1、硫酸镍-提供镍离子 2、次磷酸二氢钠-使镍离子还原为金属镍 3、络合剂-形成镍络合离子,预防氢氧化镍及亚磷酸镍生成,增加药水稳定性,pH缓冲 4、pH调整剂-维持适当pH 5、稳定剂-预防镍在胶体粒子或其它微粒子上还原 6、添加剂-增加被镀物表面负电位,使启镀轻易及增加还原效率第12页电化学理论H2PO2-+H2O H2PO32-+2H+2e-次磷酸要氧化释放电子(阳极反应)Ni2+2e-Ni 镍离子得到电
4、子还原成金属镍(阴极反应)2H+2e-H2 氢离子得到电子反原成氢气(阴极反应)H2PO2-+e-P+2OH-次磷酸要得到电子析出磷(阴极反应)总反应式:Ni2+H2PO2-+H2O H2PO3-+2H+Ni第13页Ni-P沉积第14页置换型薄/厚金主成份1、金氰化钾KAu(CN)2 2、有机酸 3、螯合剂作用1、提供氰化金离子起源,在镍面置换(离子化趋势镍金)沉积出金层 2、预防镍表面产生钝化并与溶出Ni2+结合成错离子 3、抑制金属污染物(降低游离态Ni2+,Cu2+等)反应 阳极反应NiNi2+2e-(E0=0.25V)阴极反应Au(CN)2-+e-Au+2CN-(E0=0.6V)Ni+
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