电晕处理容易出现的问题以及注意项目.doc
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1、电晕处理轻易出现问题和注意事项1原理本文所述电晕处理是一个在高电压下令电子加速离开电极,并撞击聚合物表面一个过程。因为两极间传导被阻断,使得处于电场中气体因受电子碰撞后离子化浓度急剧增加,其关键反应过程以下:O2+高能量电子2O+低能量电子2O+2O22O3+热即:3O2+电能2O3+热前式也可写成:3O2+M2O3+M式中M为空气中任何其它气体分子,如氮。它们也可受高能电子冲击离解为氮原子,并引发一系列反应,此处略去。在臭氧生成过程中,伴有弥散蓝紫色辉光电晕现象,从而被称之为电晕。换言之,薄膜电晕处理就是把薄膜置于电场中成为阻断传导介质,在电场作用下,取得高能量,并激活其它离子或分子,同时把
2、这种能量分配到薄膜上,在薄膜表面驻极,形成极性化学自由基团,使薄膜表面产生悬挂键。在这一过程中,高能电子碰撞空气中氧分子、氮分子、水分子等,伴之发生氧化还原反应,并产生臭氧和氮氧化物等。因为臭氧含有强烈氧化性,当它接触到聚丙烯薄膜表面时,会在其表面毫微米发生复杂有机反应,产生羟基(-OH)、羧基(-COOH)、羰基( C=O)等。而这些含氧官能团引入,是增加薄膜表面张力关键所在。所以,经过氧化,不仅能够改良薄膜表面张力,还能够提升薄膜表面可蒸镀性和可印刷性。电晕处理设备通常包含了一个高频高压发生器和一个附带金属电极和支持卷轴电晕处理站。它们相互平行,并以一个1.5mm空气间隙作为分隔。当电晕处
3、理站输入2040kHz或数千伏高电压时,电极间便会产生放电现象,在薄膜表面形成均匀火花。2讨论4.1电晕处理站设备配置和调整状态4.1.1理想电晕处理是电机作业频率正确,输出电压和电流值适中,放电过程有规律,这么才能得到好处理效果。4.1.2电晕处理辊和电极之间间隙大小必需保持一致,亦即二者之间既要有一定距离又要相互平行,这么才能使膜表面处场强相同,产生均匀电晕处理。通常二者间隙在1.52.5mm。4.1.3调整好电晕处理辊和其它牵引辊之间平行度和电晕处理辊上压辊压力均匀性,这么才能使膜在运行中平稳,不至于在电晕辊上发生起皱和斜扯,保持得到均匀、足够电晕量。4.2膜面温度和空气相对湿度对电晕处
4、理影响在电晕处理过程中,膜面温度和空气相对湿度是影响它两个显著变量。伴随空气相对湿度和膜面温度增大所需电晕处理时间就越长,也即薄膜越不轻易被电晕处理。这是因为当空气中相对湿度增大时,空气中水分子含量增大,而电晕过程中产生臭氧可溶于水,在常温常压下,臭氧在水中溶解度比氧约高13倍,比空气高25倍。因为臭氧浓度下降,使含氧官能团在膜面生成及驻极机会大大减小,从而降低电晕处理效果。伴随膜面温度增高,使驻极分子稳定性变差,表面分子迁移百分比增大,不利于膜面高表面能区域形成,部分抵消了经过电晕增加薄膜表面张力作用。但其次,依据实际生产中经验,膜面温度也并非越低越好。在生产中,电晕处理过程会产生大量热。为
5、预防膜面温度过高,通常我们采取循环水辊内进行闭式循环,并增加一套加热装置使冷却水保持一定温度。过低温度会使膜面分子在极化和发生化学改变时基础能量不足,也会造成膜面表面张力不足问题,所以,把电晕处理辊处膜面温度控制在合适温度范围内是电晕处理一个关键问题,这也是我们在长久生产中探索发觉。4.3电晕处理中电晕强度和处理时间控制在生产中,为了使薄膜表面张力处理达成某一等级,通常采取方法是增加电晕处理强度,在一定界限内,这种方法是行之有效,当超出这一界限后,即使再增加电晕,也不会使薄膜表面能等级得到提升,这是因为当膜在瞬时进行电晕处理过程中,电极和电晕辊之间空气量处于一个相对稳定状态,而这相对稳定空气量
6、中氧气分子含量是一定,即使提升电极电压和电流值,也不能激活更多氧分子,使更多含氧官能团驻极到薄膜表面,达成提升薄膜表面能目标。通常说来,电晕处理时间越长,表面能也会越高。不过,首先在固有设备条件下,延长电晕处理时间,肯定会降低生产效率;其次,过长电晕处理时间,会使薄膜表面张力太大,出现脆化现象乃至降解,不利于膜一次收卷和二次复卷,我们在某单位设备上就此进行过成功试验。4.4电晕处理辊和电极平行辊面和电极面不平行会造成电晕处理不均,原因是电晕强度有差异,由下式电晕强度=P/WV式中:P电晕装置放电功率,W;W膜宽,m;V膜速,m/min;从上式看出,电晕强度正比于电晕放电功率,而电晕放电功率方程
7、式为:P=4CdVsfV0-(Cd+Cg/Cd)Vs式中:Cd介电体电容,F;Cg放电间隙电容,F;V0驱动电压(峰值),V;Vs间隙发怒电压(峰值),V;f驱动电压频率,Hz。由上式显见,间隙大小不一,直接造成单位面积上放电功率不均,因为各处电晕差异,最终影响浸润张力一致性。4.5膜运行平稳性假如膜在运行中,辊筒施加于膜上张力不一致,这种差异会发生局部皱折,使该部位在电晕处理时电容量发生改变,最终也会造成浸润张力不均匀。除上述辊筒同时有差异外,还有电晕处理辊上夹辊和电晕处理辊到后扩展辊对膜扩展,和辊和辊之间平行度、辊面水平度等,全部有可能造成薄膜运行姿态不够平稳。4.6薄膜发脆走偏问题电晕处
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