内层课制程流程介绍模板.doc
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1、n 更多资料请访问.(.)內層課製程介紹壹、 目标貳、 步骤簡介參、 內層概述肆、 步骤概述內 層 製 程 介 紹壹、 目标:1. 內層(Inner layer)製程原理說明 內層最关键目标在於製作多層電路板之內層線路部份隨著科技成就發達,相對多層電路板要求也隨之升高層數增多.密集細線路將成為內層製程主流.貳、 步骤簡介: 前處理 感光阻劑附著 曝光 顯影 蝕刻 去墨 檢修1. 前處理 前處理关键目标是去氧化及粗化板面以增加板面與油墨間之附著力.包含: 酸洗 SPS微蝕 化學式前處理 硫酸雙氧水 硬刷 不織布 陶瓷刷輪 尼龍刷 軟刷 尼龍軟刷 浮石粉 物理性處理 金鋼砂 無刷輪 噴砂 浮石粉
2、金鋼砂2. 感光阻劑附著 此段关键功用是將感光阻劑均勻附著於板面上.包含: 乾膜製程 濕墨印刷 網印 手動(半自動)印刷 自動網印 垂直式網版印刷 roller coater curtain coater spray coater3. 曝光 利用特定波長之紫外光(UV)照射該感光阻劑,使感光部份形成架橋,而感光過程中即以感光起始劑受UV照射後分裂成高活性之自由基,形成交聯反應產生鍵結,未感光部分並隨之顯影液而清洗去除.其型式分為 手動曝光機 平行光 非平行光 自動曝光機 平行光 非平行光4. 顯影 顯影是將未經曝光區域洗去保留已曝光部分,其原理是未曝光感光阻劑與顯影液中之碳酸鈉,形成鈉鹽而遭到
3、溶解,使感光部分得以保留,以達到顯像目标.5. 蝕刻 以蝕刻液(CuCL2,HCL,氧化劑)來咬蝕未被乾膜覆蓋之銅,使不須要之銅層被除去,僅留下必須線路圖案.其型式分為: 蝕刻 酸性蝕刻 鹼性蝕刻6. 去墨 以3%之NaOH將留在線上之油墨完全去除,內層板即成形。7. 檢修 內層板好壞與否关键決定於成品之兩面對準度是否精確和底片影像之轉移是否失真通常以線路寬距改變程度來判斷 。由於電路板上之線路寬距甚小,所以只要製程上一個小失誤,便可能造成產品不良。8. 退洗 現行液態感光阻劑一但發生油墨附著有瑕疵時,曝光前尚可利用顯影線進行退洗至於曝光後則採氫氧化鈉利用油墨不耐鹼特質破壞鍵結给予去除,再以清
4、水洗淨達到退洗效果。參、內層概述傳統多層板係為配合眾多零件之密集裝配,而在表層之外,項內部開闢更多之佈線空間,發揮眾多資料之快速處理,而有多層板之發展。於是除了將原來雙面板上接地(Ground,Gnd)及電壓(Power,Vcc)等導體面改置於內層外,其它(內層中)還另需佈有配合外層零件,全部用到訊號線路層(Signel Layer),這就是傳統多層板原來設計目标。 但自從美國聯邦通訊委員會(FCC)宣告自1984年10月以後,全部在美國上市電子電器產品,若有包含電訊通訊者,或有參與網路連線者,皆必須做好接地工作,以消除各種雜訊(Noise)干擾所帶來影響。而通常電子裝備或電器品,為提升品質、
5、減少干擾、及穩定電壓等方法起見,也須增加接地及電壓兩個層次。所以造成四層板在短時間內大量興起。 嚴格說起來這種四層板,其兩個大銅面內層上並無線路,只有多量蝕去銅後空圓地,以待壓合後製作PTH,提供各IC之腳孔與其它零件孔,以及導電孔(Via-Hole),以形成絕緣空環(Clearance)。除此之外,還有其她少數IC腳需接大地,或接電壓十字連接孔。此種內層與真正內層線路以平環(Annular Ring)套接通孔孔璧之方法並不一样。也就是說原有雙面板多數以升級成四層板,而原有四層板升級成六層板。至於再往高多層次發展時,則大部分全部是由一層線路配一層接地組合而成。由於層數增多及線路密集,其間所需所
6、需製程處理及機具設備也逐漸有所不一样。肆、步骤概述一.裁切室:目标:將上游工廠生產大面積(48”*42” :40”*36”)基板以自動裁板機鋸切成所需要之尺寸前處理步骤:裁版磨圓角磨邊前處理 二.前處理前處理步骤:入料段化學蝕洗段復合水洗段四刷刷膜段中壓循環水洗段滾輪吸乾段熱風烘乾段出料輸送段中心定位90轉向 前處理作用:去除表面氧化物增加板面清潔度 增加板面粗糙度,使油墨附著力更佳 4 烘乾 前處理酸洗水洗物料:H2SO4(濃度7%-10%)軟水自來水 化學性前處理密度高微蝕處理:a SPS 酸性微蝕特點:反應速率快,適用于濕膜 (成份) b H2SO4+H2O2(催化劑)硫酸雙氧水適用于乾
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