圆盘定理及其应用.doc
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1、(完整word)圆盘定理及其应用圆盘定理及其应用摘要:给除了矩阵特征值的定义及确定特征值范围的圆盘定理,并对特征值估计和定位的圆盘定理进行了深入的研究,同时对对角占优实矩阵给出了更加精确的估计和定位特征值的方法。由于圆盘定理对估计特征值有其它方法不可替代的优势,所以圆盘定理在各个行业得到了广泛的应用。在集成电路加工工艺中,有一种工艺是离子注入,它可比较精确的控制离子的注入量和注入位置.但离子注入后会对半导体的晶格结构造成影响,为了让破坏的晶格得到修复,在离子注入后要对半导体进行退火的加工工艺.本文就利用圆盘定理,基于模拟退火法提出了一种新的算法,新算法用于解决实特征值的求解问题,具有通用姓,并
2、且具有很高的稳定性。在精确度要求极高的集成电路退火工艺中,一定会有很好的应用。关键字:圆盘定理 矩阵特征值 集成电路退火工艺 退火算法一 引言设,如果存在,,且0,满足,则称复数为方阵A特征值,x为对应于的特征向量。我们知道对每一个方阵在复数域内有n个特征值。特征值理论及应用渗透到数学和其他科学的很多领域。其主要方面是如何求出n个特征值。求方阵n个特征值从理论上讲是求:,即的根。当n时,特征方程没有一般的求根公式。因此,关于特征值的研究转入两方面内容:第一,近似求特征值;第二,特征值的估计和定位。事实上,在很多应用方面往往不必精确求出特征值,而是只要一个粗略的估计就可以了.例如在微分方程和自动
3、控制理论研究中,通过估计矩阵A的特征值是否均为负实部,便可判定系统的稳定性;与差分方法的稳定性有关的问题、与线性方程组迭代法求解有关问题,需要估计矩阵特征值是否均落在单位圆内等。因此,特征值的估计和定位一直是人们关注的课题。现阶段各个行业对矩阵论中特征值的应用也不必精确求出,只要一个估计和定位即可,所以,目前研究阶段处在对特征值估计和定位上.在集成电路加工工艺中,有一个重要的工序就是退火,退火的目的是为了把上一步加工工序中离子注入引起的晶格缺陷修复。在模拟退火的算法中,矩阵特征值的估计和定位也尤其显得重要.对于矩阵特征值的估计和定位,一个很好的定理在其中得到了普遍的作用.它就是圆盘定理,它很好
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