IC工艺名词解释模板.doc
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1、IC 工艺名词解释(1)Accounting 影响工厂成本关键原因有哪些? 答:Direct Material 直接材料,比如:蕊片 Indirect Material间接材料,比如气体 Labor人力 Fixed Manufacturing机器折旧,维修,研究费用等 Production Support其它相关单位所花费费用 在FAB内,间接物料指哪些? 答:Gas 气体 Chemical 酸,碱化学液 PHOTO Chemical 光阻,显影液 Slurry 研磨液 Target 靶材 Quartz 石英材料 Pad & Disk 研磨垫 Container 晶舟盒(用来放蕊片) Cont
2、rol Wafer 控片 Test Wafe r测试,试验用蕊片 什幺是变动成本(Variable Cost)? 答:成本随生产量之增减而增减.比如:直接材料,间接材料 什幺是固定成本(Fixed Cost)? 答:此种成本和产量无关,而和每一期间保持一固定数额.比如:设备租金,房屋折旧及檵器折旧 Yield(良率)会影响成本吗?怎样影响? 答:Fab yield= 若无报废产生,投入完全等于产出,则成本花费最小CP Yield:CP Yield 指测试一片芯片上所得到有效IC数目。当产出芯片上有效IC数目越多,即表示用相同制造时间所得到效益愈大. 生产周期(Cycle Time)对成本(Co
3、st)影响是什幺? 答:生产周期愈短,则工厂制造成本愈低。正面效益以下: (1) 积存在生产线上在制品愈少 (2) 生产材料积存愈少 (3) 节省管理成本 (4) 产品交期短,赢得用户信赖,建立企业信誉 FAC 依据工艺需求排气分多个系统? 答:分为通常排气(General)、酸性排气(Scrubbers)、碱性排气(Ammonia)和有机排气(Solvent) 四个系统。 高架 地板分有孔和无孔作用? 答:使循环空气能流通 ,不起尘,确保洁净房内洁净度; 防静电;便于HOOK-UP。 离子发射系统作用 答:离子发射系统,预防静电 SMIC洁净等级区域划分 答:Mask Shop class
4、1 & 100Fab1 & Fab2 Photo and process area: Class 100Cu-line Al-Line OS1 L3 OS1 L4 testing Class 1000 什幺是制程工艺真空系统(PV) 答:是提供厂区无尘室生产及测试机台在制造过程中所需工艺真空;如真空吸笔、光阻液涂布、吸芯片用真空源等。该系统提供一定真空压力(真空度大于 80 kpa)和流量,天天二十四小时运行 什幺是MAU(Make Up Air Unit),新风空调机组作用 答:提供洁净室所需之新风,对新风湿度,温度,及洁净度进行控制,维持洁净室正压和湿度要求。 House Vacuum S
5、ystem 作用 答:HV(House Vacuum)系统提供洁净室制程区及回风区清洁吸收微尘粒子之真空源,其真空度较低。使用方法为利用软管连接事先已安装在高架地板下或柱子内真空吸孔,打开运转电源。此系统之利用可减低清洁时污染。 Filter Fan Unit System(FFU)作用 答:FFU系统确保洁净室内一定风速和洁净度,由Fan和Filter(ULPA)组成。 什幺是Clean Room 洁净室系统 答:洁净室系统供给给制程及机台设备所需之洁净度、温度、湿度、正压、气流条件等环境要求。 Clean room spec:标准 答:Temperature 23 C 1C(Photo:2
6、3 C 0.5C)Humidity 45% 5%(Photo:45% 3% )Class 100Overpressure +15paAir velocity 0.4m/s 0.08m/s Fab 内safety shower日常维护及使用监督由谁来负责 答:Fab 内 Area Owner(若出现无水或大量漏水等可请厂务水课(19105)帮助) 工程师在正常跑货用纯水做rinse或做机台维护时,要注意不能有酸或有机溶剂(如IPA等)进入纯水回收系统中,这是因为: 答:酸会造成conductivity(导电率)升高,有机溶剂会造成TOC升高。二者均会影响并降低纯水回收率。 若在Fab 内发觉地面
7、有水滴或残留水等,应怎样处理或通报 答:先检验是否为机台漏水或做PM所致,若为厂务系统则通知厂务中控室(12222) 机台若因做PM或其它异常,而要大量排放废溶剂或废酸等应首先怎样通报 答:通知厂务主系统水课值班(19105) 废水排放管路中酸碱废水/浓硫酸/废溶剂等使用何种材质管路? 答:酸碱废水/高密度聚乙烯(HDPE)浓硫酸/钢管内衬铁福龙(CS-PTFE)废溶剂/不琇钢管(SUS) 若机台内drain管有接错或排放成份分类有误,将会造成后端主系统出现什幺问题? 答:将会造成后端处理主系统相关指标处理不合格,从而可能造成企业排放口超标排放事故。 企业做水回收意义怎样? 答:(1) 节省用
8、水,降低成本。重在环境保护。 (2) 符合ISO可连续发展精神和企业环境保护暨安全卫生政策。 何种气体归类为特气(Specialty Gas)? 答:SiH2Cl2 何种气体由VMB Stick点供到机台? 答:H2 何种气体有自燃性? 答:SiH4 何种气体含有腐蚀性? 答:ClF3 当机台用到何种气体时,须安装气体侦测器? 答:PH3 名词解释 GC, VMB, VMP 答:GC- Gas Cabinet 气瓶柜VMB- Valve Manifold Box 阀箱,适适用于危险性气体。VMP- Valve Manifold Panel 阀件盘面,适适用于惰性气体。 标准大气环境中氧气浓度为
9、多少?工作环静氧气浓度低于多少时人体会感觉不适? 答:21%19% 什幺是气体 LEL? H2LEL 为多少? 答:LEL- Low Explosive Level 气体爆炸下限H2 LEL- 4%. 当FAB内气体发生泄漏二级警报(既Leak HiHi),气体警报灯(LAU)会怎样动作?FAB内工作人员应怎样应变? 答:LAU红、黄灯闪烁、蜂鸣器叫听从ERC广播命令,立即疏散。 化学供给系统中化学物质特征为何? 答:(1) Acid/Caustic 酸性/腐蚀性(2) Solvent有机溶剂(3) Slurry研磨液 有机溶剂柜安用保护装置为何? 答:(1) Gas/Temp. detect
10、or;气体/温度侦测器(2) CO2 extinguisher;二氧化碳灭火器 中芯有那几类研磨液(slurry)系统? 答:(1) Oxide (SiO2) (2) Tungsten (W)鵭 设备机台总电源是几伏特? 答:208V OR 380V 欲从事生产/测试/维护时,如无法就近取得电源供给,能够无限制使用延长线吗? 答:不能够 怎样选择电器器材? 答:使用电器器材需采取经过认证之正规品牌 机台开关能够任意分/合吗? 答:未经确定不可随意分/合任何机台开关,以免造成生产损失及人员伤害. 欲从事生产/测试/维护时,如无法就近取得电源供给,也不能无限制使用延长线,对吗? 答:对 假设断路器
11、启断容量为16安培导线线径2.5mm2,电源供给电压单相220伏特,若使用单相5000W电器设备会产生何种情况? 答:断路器跳闸 当供电局供电中止时,人员仍可安心待在FAB中吗? 答:当供电局供电中止时,本厂因有紧急发电机设备,配合各相关监视系统,仍然能保持FAB之Safety,所以人员仍可安心待在FAB中.MFG 什幺是WPH? 答:WPH(wafer per hour) 机台每小时之芯片产出量 怎样衡量 WPH ? 答:WPH 值愈大,表示其机台每小时之芯片产出量高,速度快 什幺是 Move? 答:芯片制程步骤移动数量. 什幺是 Stage Move? 答:一片芯片完成一个Stage之制程
12、,称为一个Stage Move 什幺是Step Move? 答:一片芯片完成一个Step 之制程, 称为一个Step Move. Stage 和 step 关系? 答:同一制程目标step合起来称为一个stage; 比如炉管制程长oxidestage, 通常要经过清洗,进炉管,出炉管量测厚度3道step AMHS名词解释? 答:Automation Material Handling System; 生产线大部份lot是透过此种自动传输系统来运输 SMIF名词解释? 答:Standard Mechanic InterFace (确保芯片在操作过程中; 不会曝露在无尘室大环境中;所需界面) 所需
13、使用器含有FOUP/Loadport/Mini-environment等; 为什幺SMIF能够节省厂务成本? 答:只需将这些wafer run货过程中会停留小区域控制在class 1 下即可,而其它大环境洁净度只要维持在class 100 或较低等级);在此种界面下可简称为包货包机台不包人;对于维持洁净度成本是较低;操作人员穿无尘衣能够较高透气性为优先考量,舒适性较佳 为什幺SMIF能够提升产品良率? 答:因为无尘室中微尘不易进入wafer制程环境中 Non-SMIF名词解释 答:non-Standard mechanic InterFace;芯片在操作过程中会裸露在无尘室大环境中,所以整个无
14、尘室洁净度要维持在class1等级;所以厂务成本较高且操作人员无尘衣要以过滤性为优先考量,所以是较不舒适 SMIF FOUP名词解释? 答:符合SMIF标准之WAFER container,Front Opening Unit FOUP MES名词解释? 答:Manfaucture Execution System; 即制造实施系统; 该系统掌握生产相关信息,简述几项关键以下(1) 每一类产品生产step内容/规格/限制(2) 生产线上全部机台可使用情况;如可run那些程序,实时机台状态(可用/不可用)(3) 每一产品批基础资料和制造过程中全部数据(在那些机台上run过/量测结果值/各step
15、时间点/谁处理过/过程有否工程问题批注等(4) 每一产品批现在和未来要实施step等资料 EAP名词解释? 答:(1) Equpiment Automation Program;机台自动化程序;(2) 一旦机台有了EAP,此系统即会依据LOT ID来和MES和机台做沟通反馈及检验, 完成机台进货生产和出货动作;另外大部份量测机台亦可做到自动搜集量测资料和反馈至后端计算机自动化作业 EAP好处 答:(1) 降低人为误操作 (2) 改善生产作业生产力 (3) 改善产品良率 为什幺EAP能够降低人为操作错误 答:(1) 避免机台RUN错货 (2) 避免RUN错机台程序 为什幺EAP能够改善机台生产力
16、? 答:(1) 機台能够自動Download程式不需人為操作 (2) 系統能够自動出入帳,減少人為作帳錯誤 (3) 系統能够自動搜集資料減少人為輸入錯誤 为什幺EAP能够改善产品良率? 答:(1) 在Phot/etch/CMP区中,可自动微调制程参数 (2) 当机台alarm时,能够自动hold 住货 (3) 当lot内片数和MES系统内片数帐不符合时,可自动hold 住货 GUI名词解释? 答:Graphical User Interface of MES;将MES中各项功效以图形界面展现方法使得user能够方便实施 EUI名词解释?功效是什麼? 答:EAP User Interface;
17、机台自动化程序使用者界面,透過EUI能够看到機台现在狀態及貨在機台內情形 SORTER 分片机功效? 答:可对晶舟内wafer(1) 进行读刻号(2) 可将wafer定位点(notch/flat)调整到晶舟槽位(slot)指定方位(3) 依wafer号码重新排列在晶舟内相对应槽位号码上(4) 实施不一样晶舟内wafer合并(5) 将晶舟内wafer分批至多个晶舟内 OHS名词解释? 答:Over Head Shuttle of AMHS (在AMHS轨道上传送FOUP小车) FAB内关键生产区域有那些?(有7个) 答:黄光, 蚀刻, 离子植入, 化学气象沉积, 金属溅镀, 扩散, 化学机械研磨
18、 Wafer Scrap要求? 答:Wafer由工程部人员判定机台、制程、制造问题,已无法或无必需再进行后续制程时,则于当站给予報廢缴库,Wafer Scrap时请填写“Wafer Scrap处理单” Wafer经由工程部人员判定机台、制程、制造问题已无法或无必需再进行后续制程时应采取何种方法? 答:SCRAP(报废,定义请参考Wafer Scrap要求) TERMINATE要求? 答:工程试验产品已完成试验或已无法或无必需再进行后续制程时,则需终止试验产品此时就需将产品终止制程,称之为TERMINATE WAFER经由用户通知不需再进行后续制程时应采取何种方法? 答:TERMINATE FA
19、B疏散演练要求十二个月需实施几次? 答:为确保FAB内全部工作人员了解并熟悉逃生路径及方法,MFG将不定时举行疏散演练。演练次数之要求为每班每六个月一次。 何时应该填机台留言单及生产管理留言单? 答:机台留言单:机台有部分异常需临时停止部分程序待澄清而要通知线上人员时生产留言单:有特殊要求需提醒线上人员注意时 填写完成机台临时留言单应置放于那里? 答:使用机台临时留言单应将留言单置放于LOGSHEET或粘贴于机台上 机台临时留言单过期后应怎样处理? 答:机台临时留言单過期后应由MFG On-line人員清除回收, 讯息若需长久保留则请改用生产管理留言单。 生产管理留言单使用期限是多久? 答:三
20、个月 何时该填写芯片留言单? 答:芯片有问题时或是芯片有特殊交待事项需让线上人员知道则可使用芯片留言单 芯片留言单使用期限是多久? 答:三个月 填写完成芯片留言单应置放于何处? 答:FOUP 上之套子内 芯片留言单需何人署名后才可生效? 答:MFG Line Leader或Supervisor 何谓Hold Lot? 答:芯片需要停下来做试验或产品有问题需工程师判定时短暂停止则需HOLD LOT;帐点上状态为Hold,如此除非解決hold住原因不然无法继续run货 PN(Production Note,制造通报)目标? 答:(1) 为公布FAB内生产管理条例。(2) 叙述不清楚和不完善操作规则
21、。 PN范围? 答:(1) 强调O.I.或TECN之要求, 未改变(2) 更新制造通报内容(3) 请生产线帮助搜集数据(4) O.I.未要求或未限制, 且不改变RECIPE、SPEC及操作程序 何谓MONITOR? 答:对机台进行定时检测或是随产品出机台时检测称之为MONITOR,如测微粒子、厚度等 机台MONITOR项目临时变更时要填何种文件? 答:Tempory Engineering Change Notice (TECN,临时工程变更) 临时性MONITOR频率增加时可用何种表格公布至线上? 答:Production Note(PN,制造通知) 新机台RELEASE不过OI还未生效时应
22、填具何种表格公布线上? 答:Tempory Engineering Change Notice (TECN,临时工程变更) 控片目标是什幺?(Control wafer) 答:为了解机台未来run货结果是否在规格内,必需使用控片去试run,并量测所得结果如厚度,平坦度,微粒数控片使用一次就要进入回收步骤。 挡片(Dummy wafer)目标是什幺? 答:用途有2种:(1) 暖机 (2) 补足机台内应摆芯片而未摆空位置。挡片可反复使用到限定时间RUN数、厚度后,再送去回收.比如能够同时run150片wafer炉管,若不足150片时必需以挡片补足,不然可能影响制程平坦度等; High curren
23、t 机台每次可同时run17片,若不足亦须以挡片补足挡片 Raw wafer(原物料wafer)有不一样阻值范围吗? 答:是;阻值范围愈紧,成本愈贵;比如812欧姆用于当产品原物料,0100可能只能用当监控机台微尘控片 機台狀態作用? 答:為能清楚地評量機台效率,並告訴線上人員機台當時狀況 機台狀態可分為那兩大類? 答:(1) UP(2) Down 机台状态定义为availabe可用状态有那些? 答:RUN : 机台正常,正在使用中BKUP : 机台正常,帮其它厂RUN货IDLE : 机台正常,待料或缺人手TEST : 机台正常,借工程师做工程试验或调整RECIPETEST_CW : 机台正常
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