电镀工艺基础知识模板.doc
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1、、电镀新工艺介绍 .1合金电镀 合金电镀一直是电镀新工艺开发关键领域。以往为替换昴贵镀镍而开发铜锡合金,就曾经是一个新工艺。现在代镍和节镍镀层,也全部是多种合金。因为合金能够综合单一金属优点,并含有单一金属所不含有新特征,比如硬度、耐腐蚀性、功效性等。现在已经认识到,电镀作为一个湿法冶金技术,能生产出用电、热方法做不到新合金。包含在制作非晶态材料和纳米材料方面,电镀技术全部是有优势。 合金电镀原理在传统理论中是要求两种共沉积金属电极电位要靠近,假如一个电位较正,另一个电位较负,就要采取络合剂将正电位金属离子络合,使之放电电位向负方向移动,和另一金属电位相近,达成共沉积目标。这在现在也仍然对合金
2、新工艺开发有指导意义。不过现在越来越多合金中另一个成份量很小,就是这种少许金属分散在另一金属中,却改变了金属性能。用传统冶金学见解是这些掺入金属是占据在主体金属一些晶格位上,从而改变了金属物理性能。但实际上,用火法冶金极难把微量金属分散到另一金属中去,而采取电镀方法则比较轻易做到。不过电镀方法得到合金结构是否符合冶金学原理,则是值得探讨课题。 现在已经得到应用新合金工艺有锌系列,镍系列,铜系列,锡系列,银系列等。 锌作为钢铁优良廉价防护性镀层被广泛地采取 , 不过自从日本汽车打进欧洲和北美市场,汽车耐盐防护性就提到了议事日程。1在开展高耐蚀性镀层研究中,锌合金研究引人注目。最先出现是锡锌合金,
3、这种合金含锌量在左右时耐盐水喷雾时间最长,出现红锈时间可达个小时以上。最开始进入实用化工艺是年代末有机羧酸中性镀液,以后有柠檬酸镀液,现在我企业已经开发出硫酸盐光亮镀锡锌工艺。在锡锌工艺以后出现是锌镍工艺。这种工艺因为含镍量在,成本比锡锌要低,所以很快得到普及。最先出现是用于钢板连续电镀硫酸盐工艺,这大约在年前后。以后开发出氯化铵型工艺,现在比较成熟是碱性锌酸盐工艺。这种工艺特点是抗腐蚀性能尤其好,不经钝化镀层耐盐雾到出现红锈时间在小时以上。在高温下也仍能维持其优良防护性能。所以在汽车等行业有较多应用。 在锌镍开发以后两年,锌铁工艺就进入了实用化。锌铁和前面工艺不一样是铁含量很小,只在 0.2
4、 到 0.6 左右。即使以前有用于钢板电镀锌铁合金,其含铁量在,但现在进入实用还是这种低铁含量镀层。比较成熟有锌酸盐工艺。其耐蚀性也很好,但一定要经过钝化才能有高耐蚀性,当含铁量在 0.4 左右时,出现红锈盐水喷雾时间可达小时以上。现在,我企业已经开发出氯化钠型锌铁新工艺,并有黄色、彩色等高耐蚀性钝化产品。 在欧洲还有用锌钴合金工艺,这种工艺和锌铁一样,能够不用银盐做出黑色钝化膜。含钴量也仅在1%左右. 镍一直是电镀加工工业中关键镀种,因为镍资源担心和价格昂贵,开发镍合金电镀是节镍一个选择。同时,有些镍合金功效性能也是市场所需要,所以,镍基合金应用也很广泛。镍铁合金不仅可节省部分镍,而且镀层性
5、能也比纯镍镀层要好。这种镀层含铁量在 7%-30% 左右,镀层中含铁量和镀液中镍铁百分比成正比。也有采取镍锰铁合金电镀工艺报导。 用于装饰镍合金更多,尤其是黑色镀层方面,不少是用镍合金,比如镍锡,镍钴,镍镉等。铜镍合金更是在装饰电镀中有较多应用。 铜合金如铜锡合金,铜锌合金,很早就有大量应用。这方面新工艺主攻方向是以非氰化物络合物来替换氰化物,比如焦磷酸盐,柠檬酸盐镀铜合金等。锡作为钎焊性镀层关键是用在电子电镀行业,但也能够用在装饰和防护方面,比如代银锡合金,用于罐头盒防腐镀锡工艺等。但关键还是电子工业中有大量应用,现在用得最多仍然是锡铅合金。也有锡铈,锡铋等。目前趋势是采取无氟和无铅新工艺替
6、换老工艺。其它贵金属合金关键是用在装饰和功效性方面,这里就不一一加以介绍。正如前面讲到,因为合金电镀技术开发可能产生出部分新合金,这不仅在表面处理业相关键意义,对材料学科也相关键意义。所以,在新世纪,对合金电镀研究仍会加紧进行。 尤其是在多元合金,包含三元、四元合金等开发上还有很大空间 2.2电子电镀 如前所述,二十一世纪被称为高信息化世纪。所谓高信息化世纪就是以因特网为传输工具信息爆炸世纪。在这个世纪内,电子产品品种和产量将有愈加快更大发展,这给电子电镀业也带来很大机遇和挑战。所以,现在新工艺开发有很大比重将放在电子电镀方面。 所谓电子电镀就是用于电子产品或电子工业电镀技术。用于电子行业镀层
7、有很多,包含导电性镀层,钎焊性镀层,信息载体镀层,电磁屏蔽镀层,电子功效性镀层,印刷电路板电镀,电子构件防护性镀层,电子产品装饰性镀层等。电子电镀工艺除了少数是利用了传统工艺以外,大多数是近几十年开发新工艺。比如非金属电镀新工艺,化学镀新工艺,贵金属电镀新工艺,合金电镀新工艺等。 以印刷线路板电镀为例,它是以孔金属化为中心综合了前处理、化学镀、电镀、退镀等技术工艺。印刷线路板是上世纪六十年代开始应用于电子产品,伴随电子元件高密度化和集成化,单面和双面线路板已经不能满足高密度和微型化需求,所以多层印刷线路板技术应运而生。现在,多层板孔化及图形电镀技术,代表着一个国家电子工业水平。 化学镀中多种化
8、学镀镍技术,更是在电子工业中有举足轻重作用。从电磁屏蔽到硬盘电镀,全部要用到化学镀镍。当然化学镀不仅仅是用于电子行业,在其它很多行业全部相关键价值,比如在石油化工行业,部分管道内壁防护就在采取化学镀镍技术。2 . 3功效性电镀 功效性电镀实际上是一个含义较广概念,它函盖了电子电镀、减磨电镀、耐磨电镀、和全部有尤其要求电镀技术。能够说举凡对产品或材质表面有电学、力学、光学、生物学等方面要求而经过电镀加工能够满足其要求镀层,全部能够叫功效性镀层。 显然,要满足上述多种要求,光老工艺是不行,所以,在功效性电镀中新工艺百分比是最高。现在引发各方面关注是多种复合电镀技术。复合电镀是指在单金属电镀或合金电
9、镀溶液中分散部分功效性微粒,使之在电镀过程中和金属或合金共沉积,从而使被镀表面得到一些特定性能。 大家常常见到沙面镀镍工艺,有一个就是采取了分散微粒措施。早期复合电镀载体大多数是采取镀镍工艺,现在已经发展到采取镀锌工艺为载体,深入发展到以化学镀为载体。 用来做分散体微粒有香料、磨料如金刚砂、 SiC 、 Al 2 O 3 等,也有颜料、石墨、二硫化钼等。由这些微粒性能能够得悉分散有它们镀层含有什么样功效。 还有很多新工艺,全部能够包含在功效性电镀范围。能够预料,以后电镀新工艺开发方向将关键是应用于电子行业或有特殊要求行业功效性电镀技术。对二十世纪后期以合金电镀和电子电镀、功效性电镀为主电镀新工
10、艺作了简明回顾,对二十一世纪电镀技术在研制新材料尤其是纳米材料中作为做了展望。 3 电镀技术在新世纪展望 3.1贴近现代工业需要 二十一世纪对工业有很多苛求,要求高质量、高苛刻、高效率同时,还要节能节耗和保护环境。所以,开发高效节能而又无或少污染电镀新工艺将是一个长久任务。 伴随自动化技术普及和观念更新,新世纪电镀工艺将更多地在设备上做文章,大电流短时间高速电镀过程将会普及,温度、浓度、 pH 值等控制和镀液净化等全部将逐步向全自动化发展。无排放电镀工艺将出现。这些全部是为愈加适合工业各界对电镀需要,只有贴近现代工业多种需要开发新工艺,电镀加工工业本身在新世纪才有立足之地。 3.2制造新型材料
11、 电镀技术传统上是用于防护和装饰用途,但伴随电镀技术进步,电镀加工已经不仅仅只用于防护和装饰领域,而且能够成为一个关键新材料生产工具。 电镀技术已经成功地用来制作非晶态材料。非晶态材料是相对结晶材料而言新型材料,它在硬度、强度、耐腐蚀性能等方面全部比传统材料要好。 现在大家常常能听到一个词,就是“纳米”。二十一世纪也被称为纳米世纪。所谓纳米是一个物质聚集状态,当原子或分子处于千万分之一米到亿分之一米范围时,显示出部分新性质。当材料结晶大小介于多个或几十个纳米时,这种材料就有了意想不到新特征。比如几纳米长电极,就能够将芯片运行速度提升几万倍;由纳米材料制成金属强度比一般金属高十几倍,而本身象橡胶
12、一样富有弹性;纳米陶瓷保留了陶瓷耐高温和高强度特征却又表现出塑性。还有很多相关纳米神奇性能和应用小说。总而言之,大家对纳米寄予了很大期望。 现在世界上纳米晶体材料制作技术能够分为三大类:一是外力合成法,如机械研磨;二是电沉积方法,如电镀沉积、等离子体沉积;三是相变界面形成法。其中电镀方法和其它方法相比有其本身特点,一是很多单一金属能够被电镀出来,二是技术难度相对较小。所以,伴随对纳米材料研究和需求增加,使用电镀技术来研制和生产纳米材料将不会是很远事情。3.3电镀成型说起电镀成型,很轻易让人想到电铸。但这里所说电镀成型和传统电铸有其不一样之处。电铸需要有一个母型或模胎,再在上面电铸后成型。而电镀
13、成型是指在没有母型情况下,在特制电解液内,由电极进行选择性间歇放电来进行电沉积,当这种放电受电脑控制时,能够依据电脑内存放信息镀出所需要形状。 这听起来像科学幻想,但很多发明正是源于科学幻想。相信在更多富有想象力电镀技术工作者努力下,电镀技术还会有更多用途被开发出来。经过考察乳酸、丙二酸、柠檬酸和无机酸浓度对工艺影响,确定了适宜中温酸性化学镀镍工艺,其中复合络合剂由乳酸和无机酸L组成,含量均为10ml/L。测定了该中温酸性化学镀镍沉积速度和镀层结协力、硬度、耐蚀性和磷含量,并经过扫描电镜观察了镀层形貌及微观结构。结果表明,该中温化学镀镍层光亮平整、结构致密均匀、显微硬度可达480HV,耐硝酸点
14、蚀时间大于180s, 磷含量为7.50,镀速达20m/h。该工艺可和高温化学镀镍媲美。镀覆方法1 化学气相沉积 chemical vapor deposition用热诱导化学反应或蒸气气相还原于基体凝聚产生沉积层过程。2 物理气才目沉积 physical vapor deposition通常在高真空中用蒸发和随即凝聚单质或化合物方法沉积覆盖层过层。3 化学钝化 chemical passivation用含有氧化剂溶液处理金属制件,使其表面形成很薄钝态保护膜过程。4 化学氧化 chemical oxidation 经过化学处理使金属表面形成氧化膜过程。5 阳极氧化 anodizing金属制件作为
15、阳极在一定电解液中进行电解,使其表面形成一层含有某种功效(如防护性,装饰性或其它功效)氧化膜过程。6 化学镀(自催化镀) autocalytic plating在经活化处理基体表面上,镀液中金属离子被催化还原形成金属镀层过程。7 激光电镀 1aser electroplating在激光作用下电镀。8 闪镀 flash(flash plate)通电时间极短产生薄镀层电镀。9 电镀 electroplating利用电解在制件表面形成均匀、致密、结合良好金属或合金沉积层过程。10 机械镀 mechanical plating在细金属粉和适宜化学试剂存在下,用坚硬小圆球撞击金属表面,以使细金属粉覆盖该
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