极大规模集成电路制造装备及成套工艺模板.doc
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1、国家科技重大专题 “极大规模集成电路制造装备及成套工艺”项目指南为推进中国集成电路制造产业发展,提升中国集成电路制造装备、工艺及材料技术自主创新能力,充足调动中国力量为重大专题有效实施发挥作用,国家科技重大专题“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”依据实施方案和“十一五”实施计划,安排一批项目在全国公开公布,经过竞争择优方法选择优势单位负担项目。一、 项目申请范围依据附件1列出项目指南说明,进行项目申请,编制项目申报书。二、 项目申报和组织方法由专题实施管理办公室组织,经过教育部、工业和信息化部、中国科学院、国资委和各省(市)科委(厅、局)向所辖企业、直属高校、科研院所公布指南,组织所辖单位编
2、制项目申报材料,由各主管部门汇总后统一报送专题实施管理办公室。专题实施管理办公室对各部门(地方)申报项目进行汇总后,由专题总体组组织教授进行申请材料初审,筛选符合专题要求优势单位提交专题办公室,由专题办公室组织评审委员会进行正式评审,择优委托主负担单位,在专题总体组指导下组织产学研用联盟负担项目。三、 项目申报单位基础要求1、 在中国境内注册中资控股企业,注册资本为申请国拨经费10%以上。2、 含有独立法人资格科研院所和高校。3、 同一单位此次主负担项目标准上不超出2项。同一个人负责项目不能超出1项,参与项目不能超出2项。4、 配套资金要求全部产品开发和产业化项目需由地方政府或行业主管部门提供
3、不少于中央财政经费配套资金。四、 报送要求每个项目报送项目申报书纸质材料一式20份(具体要求见附件3)及电子版(光盘)1份,和其它材料(见附件2)。五、 联络方法联络人:张国铭、高华东、王泓联络电话:01051530051,51530052,64369398电子邮件:通讯地址:北京市海淀区知春路27号(大运村)量子芯座集成电路设计园403室邮 编:100083六、 截止时间10月6日17:00前送达专题实施管理办公室。附件1项目指南说明一、 集成电路装备1. 项目任务:65nm PVD设备研发和应用项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化 项目目标:研究开发面向65nm极大规模集成电路生产线
4、PVD设备,取得关键自主知识产权,满足65纳米主流工艺相关参数要求,性能指标达成同类产品国际优异水平,并经过65纳米大生产线考评和用户认证,含有产业化能力及市场竞争力,在65nm集成电路大生产企业取得5台以上应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人集成电路装备企业或企业性质研究所,组织产学研用联盟联合负担项目。研发团体应有稳定队伍并有国际前沿技术研发能力,需要含有知识创新能力,含有产业化能力和经验。实施期限: 2. 项目任务:65nm互连镀铜设备研发和应用 项目编号:ZX0 项目类别:产品开发和产业化 项目目标:研究开发面向65nm极大规模集成电路生产线镀铜设备,取得关键自主知识产权,
5、满足65纳米主流工艺相关参数要求,性能指标达成同类产品国际优异水平,经过65纳米大生产线考评及用户认证,含有产业化能力及市场竞争力,在65nm集成电路大生产企业取得5台以上应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人集成电路装备企业或企业性质研究所,组织产学研用联盟联合负担项目。研发团体应有稳定队伍并有国际前沿技术研发能力,需要含有知识创新能力,含有一定产业化能力和经验。实施期限: 3. 项目任务:65nm快速热退火设备研发和应用项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:研究开发面向65nm300mm集成电路生产线快速热退火设备,取得关键自主知识产权,满足65纳米主流工艺相关参数
6、要求,性能指标达成同类产品国际优异水平,经过65纳米大生产线考评和用户认证,含有产业化能力及市场竞争力,在65nm集成电路大生产企业取得3台以上应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人集成电路装备企业或企业性质研究所,并组织产学研联盟联合负担项目。实施期限:4. 项目任务: 9065nm 匀胶显影设备研发和应用项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:研究开发9065nm极大规模集成电路制造用匀胶显影设备,取得关键自主知识产权,满足9065纳米主流工艺相关参数要求,性能指标达成同类产品国际优异水平,经过大生产线考评和用户认证,含有产业化能力及市场竞争力,在65nm集成电路大生
7、产企业取得3台以上应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人集成电路装备企业或企业性质研究所,并组织产学研用联盟联合负担项目。 实施期限:5. 项目任务: 65nm清洗及化学处理设备开发和产业化项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:研究开发65nm极大规模集成电路生产线清洗及化学处理系列设备,取得自主创新突破,满足65纳米主流工艺相关参数要求,性能指标达成同类产品国际优异水平,经过大生产线考评和用户认证,含有产业化能力及市场竞争力,在65nm集成电路大生产企业取得5台以上应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人集成电路装备企业或企业性质研究所,并组织产学研用联盟联合
8、负担项目。实施期限:6. 项目任务:集成电路生产全自动光学测量设备研发和应用项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:开发9065nm集成电路生产线用全自动光学测量设备,满足膜厚、线宽、图形形貌等工艺测量要求,取得自主创新突破,满足9065纳米主流工艺相关参数要求,性能指标达成同类产品国际优异水平,经过生产线考评和用户认证,含有产业化能力及市场竞争力,在集成电路生产线取得5台以上应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人企业、科研院所和高校,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:7. 项目任务:CD-SEM工艺检测技术和设备研究项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目
9、目标:突破超精密快速扫描、高速图像采集和处理技术,完成检测线宽达成9065nmCD-SEM样机研制,取得自主创新突破,经过生产线考评和用户认证,含有产业化能力及市场竞争力。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人企业、科研院所和高校,并组织产学研联盟联合负担项目。实施期限:8. 项目任务:射频和数模混合信号集成电路测试系统开发项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:面向大规模集成电路产品,开发射频、数模混合信号集成电路测试系统设备,满足大规模测试生产线需求,取得自主创新突破,性能指标达成国际同类产品优异水平,经过大测试线考评和用户认证,含有产业化能力及市场竞争力。项目负担单位要求
10、:主负担单位要求是独立法人集成电路装备企业、科研院所和高校,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:9. 项目任务:优异封装设备项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:面向高密度封装生产线需求,研究开发高精度倒装芯片键合机、优异封装光刻机、涂胶显影机、溅射台、凸点刻蚀机、硅片清洗机等高端封装设备,技术参数和工艺性能满足封装规模化生产线要求,产品经过大生产线工艺验证和产品考评,性能指标达成同类产品国际优异水平,含有产业化能力和市场竞争力。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人企业或企业性质研究所,组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:10. 项目任务:成套封装设备和材料生产示
11、范线工程项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:面向优异封装生产线对设备和材料需求,由大型封装生产企业建立成套设备和材料生产示范线,集成高倍显微镜、磨片前贴膜机、减薄机、接触式测厚仪、自动揭膜机、CO2气泡发生器、Wafer Mount、划片机、自动晶园清洗机、导电胶搅拌机、装片机、无氧化烘箱、等离子清洗机、键合机、金丝拉力仪、自动塑封压机/模具、X-Ray检测、洁净固烤炉、自动磨胶机、激光打印机、自动切筋机、自动成型机、高速自动电镀线、镀层测厚仪、切割前贴膜机、切割机、投影仪、UV照射机、装管机、条带测试编带机、测试分选机、测试主机、包装机等设备组成生产示范线。组织封装材料供给商
12、研究开发绿色环境保护型环氧封装料及液体环氧封装材料、高可靠封料、底填料、导电浆料及导电胶、高密度及异型引线框架、低成本铜键合丝、超细低弧高强度键合丝、脱模剂、蓝膜、无铅焊料和焊球、聚酰亚胺光敏树脂及厚膜光刻胶、热管理(TIM)材料、基板材料等产品,在生产示范线上进行认证和应用示范。示范所集成设备和研发材料技术参数和性能满足封装规模化生产线要求,经过用户考评和合格供给商认证,含有产业化能力及市场竞争力。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人大型封装生产企业,在专题总体组指导下,组织招标,组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:,底前完成设备和材料示范线考评。11. 项目任务:国产300mm硅
13、材料成套加工设备示范线工程项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:面向90-65nm极大规模集成电路用硅单晶及抛光片制备技术需求,研究开发单晶炉、线截断机、多线切割机、倒角机、磨片机、抛光机(CMP)、清洗机(包含CDS)、全自动检测分选装置等关键设备,技术参数和工艺性能满足硅片规模化生产要求,性能指标达成同类产品国际优异水平,在300毫米硅片企业建立成套示范线,经过用户考评和合格供给商认证,含有产业化能力及市场竞争力。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人企业或企业性质研究所,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:二、 关键部件和关键技术12. 项目任务:洁净和直驱型真空
14、机械手及硅片传输系统研制项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:面向中国大规模集成电路制造整机装备对200300mm硅片输送自动化部件需求,掌握真空机械手、大气机械手和EFEM工程设计和批量制造技术,形成面向刻蚀机、CVD、PVD、CMP和镀铜等整机设备配套EFEM系列化产品,研制出性能稳定可靠硅片输送设备,性能指标达成同类产品国际优异水平,并实现产品化应用及产业化。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人企业或企业性质研究所,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:13. 项目任务:用于超净环境硅片传输机械手研发和应用项目编号:ZX0 项目类别:产品开发和产业化项目目标:针对
15、中国IC装备用户需求,掌握超洁净环境下200300mm硅片传输机器人工程设计和批量制造技术,研制性能稳定可靠硅片传输机械手,性能指标达成同类产品国际优异水平,并实现产品化应用及产业化。项目负担单位要求:主负担单位要求独立法人企业或企业性质研究所,并组织产学研联盟联合负担项目。实施期限:14. 项目任务:干泵和系列真空阀门产品开发和产业化项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:研究开发极大规模集成电路装备用干泵及系列真空阀门,性能指标达成同类产品国际优异水平,经过整机用户考评和采购认证,含有产业化能力及市场竞争力,取得500台/套以上应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人真
16、空设备制造企业或企业性质研究所,组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:15. 项目任务:磁浮分子泵系列产品开发和产业化项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:研究开发极大规模集成电路装备用磁浮分子泵系列产品,性能指标达成同类产品国际优异水平,经过整机用户考评和采购认证,含有产业化能力及市场竞争力,取得超出200台应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人专业生产真空设备企业或企业性质研究所,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:16. 项目任务:集成电路装备200300mm SMIF系统研发和应用项目编号:ZX0项目类别:产品开发和产业化项目目标:研究开发极大规模集成电
17、路装备200300mm SMIF系统产品,取得关键自主知识产权,经过整机用户考评和采购认证,含有产业化能力及市场竞争力,取得超出500套应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人集成电路装备企业或企业性质研究所,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:17. 项目任务:集成电路生产线自动化调度控制软件技术项目编号:ZX0项目类别:关键技术研究项目目标:面向极大规模集成电路制造大生产线自动化及高产率、高成品率需求,开展生产过程监控、设备异常估计、优化调度、成品率控制等技术研究,开发相关大生产线自动化系统软件产品和处理方案,建立用户支持服务体系,并在23家(前工序、封装)大生产线得到验证和
18、应用,建立长久合作和服务关系。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人企业或企业性质研究所,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:18. 项目任务:符合国际标准集束型IC装备控制系统开发平台研发和应用项目编号:ZX0项目类别:关键技术研究项目目标:研制开发符合SEMI标准和相关自动化标准集束型IC装备自动化系统开发平台,为半导体装备制造商提供开放、模块化自动化软件产品和系统处理方案,建立用户支持服务体系,经过34家用户验证并取得应用,建立长久合作和服务关系。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人企业或企业性质研究所, 并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:19. 项目任务:半导体
19、设备工艺腔室多场耦合分析和优化设计通用平台研究项目编号:ZX0项目类别:关键技术研究项目目标:面向极大规模集成电路制造装备中普遍采取关键工艺反应腔室开发和创新设计需求,研究工艺腔室中流场、热场、电磁场、等离子体等多场强耦合仿真分析技术,开发工艺腔室优化设计平台,形成实用化软件工具,提供完整技术处理方案和结果产业化转移方案,在34家设备和生产线用户得到验证和实际应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人高校、研究所和企业,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:20. 项目任务:IC装备整机建模和仿真设计平台项目编号:ZX0项目类别:关键技术研究项目目标:面向极大规模集成电路制造装备复杂
20、系统整机设计和产品开发需求,研究多领域建模和仿真技术、多学科协同设计技术,开发集成电路装备整机建模和仿真设计平台,形成实用化软件工具,提供完整技术处理方案和结果产业化转移方案,并在34家经典集成电路制造装备设计和产品开发中取得实际应用。项目负担单位要求:主负担单位要求是独立法人高校、研究所和企业,并组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:21. 项目任务:封装设备关键部件和关键技术 项目编号:ZX02021项目类别:关键技术研究和部件产品开发项目目标:研究开发高速空气静压电主轴、超高加速精密运动系统和控制技术、高速机器视觉技术等优异封装设备关键部件和关键技术,提升整机性能和竞争力,取得关键知识
21、产权。部件产品性能指标达成同类产品国际优异水平,经过用户考评验证,含有产业化能力及市场竞争力。关键技术研发应和整机单位紧密结合,提供完整技术处理方案和结果产业化转移方案,取得产业化应用。应用台数超出200台。项目负担单位要求:关键技术项目主负担单位要求是独立法人企业、科研院所和高校;部件产品开发项目负担单位要求是独立法人企业或企业性质研究所。组织产学研用联盟联合负担项目。实施期限:三、 成套工艺22. 项目任务:0.25-0.18微米通用BCD产品工艺开发和产业化项目编号:ZX02022项目类别:产品工艺开发和产业化项目目标:完成0.25-0.18微米通用BCD(40V以下)工艺开发和设计服务
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