TFT制造原理和流程PPT.ppt
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1、TFT显示面板制造工程简介显示面板制造工程简介2目录目录目录目录一、液晶显示器一、液晶显示器(LCD)的基础的基础 1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义液晶材料及液晶显示器的基本定义 1.2液晶显示器的基础及原理液晶显示器的基础及原理二、二、TFT-LCD制造基本流程及设备制造基本流程及设备 2.1 制造流程概要制造流程概要 2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备 2.3 CELL工艺流程及设备工艺流程及设备 2.4 Module工艺流程及设备工艺流程及设备3一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器(LCD)(LCD)的基础的基础的基础的基础1.1液晶材料及液晶显示器的
2、基本定义液晶材料及液晶显示器的基本定义q液晶的发现 1888年,奥地利植物学家F.Reinitzer在测量某些有机物熔点时发现:1889年,德国物理学家O.Lehmann发现:这类不透明的物体外观上属液体,但具有晶体特有的双折射性质,于是将其命名为“液态晶体”固态固态不透明不透明浑浊状态浑浊状态透明液态透明液态加热冷却加热冷却4一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器(LCD)(LCD)的基础的基础的基础的基础q液晶液晶 :一种液体状结晶性物质,介于固体(结晶)以及液体(非结晶)之间的第四状态(中间状态),具有流动性以及各向异性(光学各向异性,如双折射效应).q液晶显示器液晶显
3、示器 :利用外加电压以及液晶材料本身光学各向异性(如双折射效应以及旋光特性),进而显示所需要的数字、文字、图形以及影像等功能的一种人机界面的信息、通讯、网络的系统。1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义液晶材料及液晶显示器的基本定义5一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器(LCD)(LCD)的基础的基础的基础的基础扩散扩散 光学薄膜光学薄膜导光板导光板荧光管荧光管接续电路基板接续电路基板驱动用驱动用LSITCPCF基板基板偏光板偏光板液晶盒液晶盒Array基板基板液晶显示器的构造模式断面图液晶显示器的构造模式断面图1.2液晶显示器的基础及原理液晶显示器的基础及原理6一、液晶显示
4、器一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器(LCD)(LCD)的基础的基础的基础的基础封框胶封框胶 信号配线端子信号配线端子 Gate配线端子配线端子 基板基板CF基板基板Ag电极电极 配向膜配向膜液晶面板的构造平面图液晶面板的构造平面图(TFT(TFT型型 )1.2液晶显示器的基础及原理液晶显示器的基础及原理7一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器(LCD)(LCD)的基础的基础的基础的基础偏光板偏光板CF基板基板盒垫料盒垫料转移电极转移电极(Ag)封框胶封框胶封框胶垫料封框胶垫料取向膜取向膜TFT基板基板偏光板偏光板液晶液晶BGRITOBM液晶面板的构造断面图液晶面板的
5、构造断面图(TN(TN型型 )1.2液晶显示器的基础及原理液晶显示器的基础及原理8一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器一、液晶显示器(LCD)(LCD)的基础的基础的基础的基础彩膜空间混色法实现彩膜空间混色法实现TFTTFTLCDLCD彩色化彩色化TFT基板基板彩膜的结构彩膜的结构偏光板偏光板TFT背光源背光源偏光板偏光板液晶液晶黑色矩阵黑色矩阵提高对比度提高对比度降低降低Ioff 1.2液晶显示器的基础及原理液晶显示器的基础及原理9二、二、二、二、TFT-LCDTFT-LCD制造基本流程及设备制造基本流程及设备制造基本流程及设备制造基本流程及设备CELL工程工程MODULE工程工程基板
6、玻璃基板11001300成膜光刻(反复)基板贴合彩膜取向液晶滴下贴合切断(15型16片)面板端子接续电路基板安装背光源面板外框组装液晶液晶面板面板完成完成2.1 制造流程概要制造流程概要10二、二、二、二、TFT-LCDTFT-LCD制造基本流程及设备制造基本流程及设备制造基本流程及设备制造基本流程及设备2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工程Active&S/工程工程工程检查(TN-1)检查(TN-2):Mask ProcessCell工程ate工程Active工程 钝化层工程ITO工程检查(SFT-2):Mask Process检查(SFT-1)Cell工程S/工程Repair(
7、TN-1)Repair(TN-2)Repair(SFT-1)Repair(SFT-2)Glass购入,洗净后使用Glass购入,洗净后使用11ARRAYARRAY制造流程图制造流程图12TFT ArrayTFT Array组成材料组成材料组成材料组成材料13TFT GATETFT GATE电极形成电极形成电极形成电极形成14TFT Active(TFT Active(岛状半导体形成岛状半导体形成岛状半导体形成岛状半导体形成)15TFT S/DTFT S/D源漏电极形成源漏电极形成源漏电极形成源漏电极形成16TFT TFT 钝化层及接触孔形成钝化层及接触孔形成钝化层及接触孔形成钝化层及接触孔形成
8、17TFT ITOTFT ITO像素电极形成像素电极形成像素电极形成像素电极形成182.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备装料周转盒机械手传送装置UV药液喷淋刷洗高压喷射MS气刀传送装置机械手卸料洗浄洗浄192.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备洗浄洗浄药液刷子高圧排水排水纯水洗净 功能洗净对象作用药液刷洗高 压 喷射氧化分解溶解机械剥离机械剥离机械剥离有机物(浸润性改善)有机物微粒子(大径)微粒子(中径)微粒子(小径)/溶解接触压水压 加速度cavitation20PVDPVD(溅射溅
9、射):):):):物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition)2.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺室工艺室工艺室工艺室搬送室搬送室工艺室工艺室加热室加热室进料室进料室卸料室卸料室自动移栽装置自动移栽装置21PVDPVD:物理气相沉积PVD(Physical Vapor Deposition)阴极靶材阳极腔体泵基板2.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备222.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备PECVDPE
10、CVD:电浆辅助化学气相沉积Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition232.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备PECVDPECVD:电浆辅助化学气相沉积Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition加热腔加热腔工艺腔工艺腔装载台装载台纳入纳入(大气到真空大气到真空)/送出腔送出腔(真空到大气真空到大气)机械手机械手242.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备PECVDPECVD:电浆辅助化学气相沉积Plasma
11、Enhanced Chemical Vapor Deposition除害装置除害装置(scrubber)汽缸汽缸cabinet气体气体BOX气体吹出电极气体吹出电极(阴极阴极)等离子体等离子体控制控制电源电源下部下部电极电极(阳极阳极)压力计压力计节流阀节流阀干泵干泵气体供给气体供给流量流量控制控制power压力控制压力控制真空排气真空排气特气对应特气对应工艺腔体工艺腔体(电极电极部)部)252.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备IN CVEUV N CVETCHZONEDI RINSE UNITA/Kdry2dry1液刀风帘干燥风刀置换液
12、刀Out CVWETWET简介简介简介简介-湿刻设备构成湿刻设备构成湿刻设备构成湿刻设备构成262.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备q设备主要工艺单元:qEUV unit:祛除玻璃表面有机残留物。qEtch zone:刻蚀区域qRinse unit:水洗单元qDry unit:干燥单元q液刀:主要起预湿(置换),冲刷的效果。q风帘:主要是吹掉玻璃上残余的药液q风刀:干燥的玻璃的效果。WETWET简介简介简介简介-各工艺单元功能各工艺单元功能各工艺单元功能各工艺单元功能272.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺
13、流程及设备工艺流程及设备WETWET简介简介简介简介-工程概念图工程概念图工程概念图工程概念图282.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备光阻剥膜DEYDEY简介简介简介简介干刻干刻干刻干刻292.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备DEYDEY简介简介简介简介设备原理设备原理设备原理设备原理302.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备压力控制压力控制气体供给气体供给控制台控制台除害装置除害装置(scrubber)汽缸汽缸cabinetGa
14、s box上部上部电极电极气体吹出气体吹出电源电源(场合场合)下部下部电极电极APC阀阀泵泵流量流量控制控制RF power压力检压力检出出真真空排空排气气特气对应特气对应APC控制C/M控制C/M等离子体工艺腔体工艺腔体M.BoxDEYDEY简介简介简介简介工程示意图工程示意图工程示意图工程示意图312.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备PHOTO-PHOTO-曝光显影蚀刻基本概念曝光显影蚀刻基本概念曝光显影蚀刻基本概念曝光显影蚀刻基本概念322.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备PH
15、OTO-PHOTO-显影显影显影显影33PHOTO-PHOTO-显影显影显影显影2.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备342.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备TEST AOI(ADI&AEI)Auto optical inspection configuration 自动光学检查自动光学检查352.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备2160mm2400mm 3GB44unit=132GBThe CCD sensor detect t
16、he substrate,Image by the process unit.Defect can be reviewed preciselyCCD探测产品表面,生成的图象通过处理单元,缺陷会精确的反映出来.AOI Auto optical inspection configuration 自动光学检查设备自动光学检查设备-图形处理单元图形处理单元362.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备O/S test designO/S test designqPanel structure for O/S TestqEvery data line e
17、xtandsqout of the active area connect with O/S padqOn the other side all data line connected together by Shorting bar372.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备Array Tester Test station Electrical cabinet Operator console Environmental Enclosure382.2 ARRAY2.2 ARRAY工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备工艺流程及设备Ar
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